真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与有机蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
桌面型热蒸发镀膜仪是一种用于材料表面涂层的设备,常用于科研和工业领域。它利用热蒸发原理,将固态材料加热到蒸发温度,在真空环境中将蒸发的原子或分子沉积到基材表面形成薄膜。
**主要特点:**
1. **小型化设计**:桌面型的设计使得设备占用空间小,适合实验室或小型生产环境。
2. **高真空环境**:通常配备真空泵,能实现低压环境,减少蒸发过程中气体分子的干扰。
3. **温控系统**:具有的温度控制系统,可以根据不同材料的需要进行加热,确保蒸发过程的稳定性。
4. **多种材料兼容性**:可以处理多种金属、合金和一些非金属材料,适应不同的镀膜需求。
5. **沉积速率监测**:一些的模型配备有沉积速率监测仪器,能够实时监测膜层的厚度,确保镀膜质量。
**应用领域:**
- 光学元件的镀膜,例如镜头和光学滤光片
- 半导体器件的制作
- 太阳能电池的表面处理
- 各类传感器的表面增强
使用桌面型热蒸发镀膜仪时,应遵循操作规程,确保安全和设备的正常运行。
束源炉是一种特殊类型的核反应堆,主要用于研究和医学应用。它的特点包括:
1. **中子源**:束源炉能够产生大量的中子,这些中子可用于材料研究、核检测、医学成像及等领域。
2. **小型化**:与传统的核反应堆相比,束源炉通常较小,设计上更为紧凑,适合于实验室或等场所。
3. **低功率运行**:束源炉的运行功率相对较低,一般在几千瓦到几兆瓦之间,适合用于中子辐照实验。
4. **安全性**:由于功率较低,束源炉的设计通常具有更高的安全性,反应堆的重要系统和结构更易于控制。
5. **多用途**:除了用于基础科学研究外,束源炉还可用于材料分析、核医学以及教育等多个领域,显示出其多功能性。
6. **易于安装与维护**:束源炉一般设计得更加便捷,方便安装和日常维护。
7. **放射性废物处理**:由于其低功率的特性,所产生的放射性废物相对较少,处理相对简单。
这些特点使得束源炉在研究和应用中发挥了重要的作用。

电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学和材料科学等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:电阻蒸镀机能够将材料(如金属、合金、氧化物等)以蒸发形式沉积在基材表面,形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**:设备通常配备的温度控制和蒸发速率监测系统,可以控制薄膜的厚度和均匀性。
3. **多种材料兼容**:电阻蒸镀机可以用于多种类型的材料沉积,包括金属(如铝、金、银)、合金以及一些特定的化合物。
4. **真空环境**:通过在真空环境中进行沉积,可以减少气体分子对薄膜沉积的影响,从而提高薄膜的品质和性能。
5. **可调参数**:用户可以根据实际需求调整沉积温度、速率、时间等参数,以实现不同的应用效果。
6. **应用广泛**:电阻蒸镀机常用于制造光学元件、半导体器件、传感器、太阳能电池等多种产品。
7. **自动化程度高**:现代电阻蒸镀机通常具备计算机控制系统,可以实现自动化操作,提高生产效率。
总之,电阻蒸镀机是一种重要的薄膜制备工具,其优越的性能使其在科学研究和工业生产中都得到了广泛应用。

钙钛矿镀膜机是一种专门用于制造钙钛矿材料的设备,通常涉及薄膜沉积技术。这种机器的主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过化学气相沉积(CVD)、物相沉积(PVD)或溶胶-凝胶法等技术,将钙钛矿材料沉积在基材上,形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**:能够控制沉积过程中的温度、压力和气体流量,以确保薄膜的厚度和均匀性符合要求。
3. **材料多样性**:支持多种钙钛矿材料的沉积,包括不同的组成和结构,以适应不同应用需求。
4. **表面处理**:可以对镀膜后处理表面进行刻蚀或清洗,以改善薄膜的性能和附着力。
5. **实时监测**:配备传感器和监测系统,可以实时监测沉积状态和薄膜质量,确保生产过程的稳定性和可重复性。
6. **自动化操作**:许多钙钛矿镀膜机具有自动化功能,能够减少人工干预,提高生产效率和减少人为错误。
钙钛矿材料被广泛应用于太阳能电池、光电器件、催化剂等领域,因此,钙钛矿镀膜机在新材料研发和产业化方面具有重要意义。

热蒸发镀膜机是一种用于物相沉积(PVD)技术的设备,主要功能包括:
1. **膜层制备**:通过加热蒸发材料,使其转变为气态,并在基材表面沉积形成薄膜。可以用于制备金属、绝缘材料或半导体薄膜。
2. **膜层厚度控制**:通过控制蒸发率和沉积时间,可以调节膜层的厚度。
3. **材料种类选择**:可以使用多种材料进行蒸发,如金、银、铝、氧化物等,以实现不同的光学或电气性能。
4. **真空环境控制**:在真空环境中进行镀膜,降低空气中的杂质对膜层质量的影响,提高膜层的致密性和均匀性。
5. **基材适应性**:可用于多种基材的镀膜,包括玻璃、塑料、金属等。
6. **功能性薄膜的制备**:可以制备不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、导电膜、光电膜等,广泛应用于光电子器件、显示器、传感器等领域。
7. **多层膜制备**:可实现多层膜的叠加,制造复杂结构以满足特定的光学或电气特性。
这些功能使得热蒸发镀膜机在材料科学、电子、光学等领域有着广泛的应用。
钙钛矿镀膜机主要适用于以下几个领域:
1. **光伏产业**:用于制造钙钛矿太阳能电池,钙钛矿材料具有优良的光电转换效率,适合用于的光伏设备。
2. **光电器件**:用于生产光电器件,如发光二极管(LED)、激光器和光探测器等。
3. **显示技术**:钙钛矿材料可应用于新型显示器件,比如量子点显示器和OLED显示器。
4. **传感器**:在传感器生产中,钙钛矿材料因其的电学特性而被应用于气体传感器、生物传感器等。
5. **薄膜电池和电容器**:钙钛矿镀膜技术也可用于制造薄膜电池和电容器等储能装置。
6. **纳米技术**:在纳米材料的研究和应用中也可能涉及到钙钛矿镀膜。
钙钛矿镀膜机可以实现高精度的薄膜沉积,满足不同材料和结构的需求,从而广泛应用于以上研究与产业领域。
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