真空腔室Ф246×260mm，304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源（兼容金属与有机蒸发）3组，可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台，供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm，具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
蒸发舟是一种用于物相沉积（PVD）技术的设备，广泛应用于薄膜材料的制备。在这种过程中，固体材料（如金属或化合物）被加热到高温，使其蒸发，并在真空中沉积到基材表面，从而形成薄膜。
当材料在蒸发舟中加热到其蒸发温度时，会产生颗粒或原子，这些颗粒会随蒸气流动，终在冷却的基材上凝结，形成所需的薄膜。蒸发舟的主要优点是可以在相对低的温度下进行沉积，同时能够获得较高的沉积速率和良好的膜质量。
在蒸发过程中产生的颗粒可以是单原子层、分子或小颗粒，具体取决于蒸发的材料和条件。这些颗粒在沉积过程中会根据其动能和温度条件，形成不同的厚度和结构。
需要注意的是，蒸发的效率和膜的性质与蒸发舟的材料、温度、压力、基材的选择等多种因素密切相关。
热蒸发镀膜机是一种用于物相沉积（PVD）技术的设备，主要功能包括：
1. **膜层制备**：通过加热蒸发材料，使其转变为气态，并在基材表面沉积形成薄膜。可以用于制备金属、绝缘材料或半导体薄膜。
2. **膜层厚度控制**：通过控制蒸发率和沉积时间，可以调节膜层的厚度。
3. **材料种类选择**：可以使用多种材料进行蒸发，如金、银、铝、氧化物等，以实现不同的光学或电气性能。
4. **真空环境控制**：在真空环境中进行镀膜，降低空气中的杂质对膜层质量的影响，提高膜层的致密性和均匀性。
5. **基材适应性**：可用于多种基材的镀膜，包括玻璃、塑料、金属等。
6. **功能性薄膜的制备**：可以制备不同功能的薄膜，如反射膜、抗反射膜、导电膜、光电膜等，广泛应用于光电子器件、显示器、传感器等领域。
7. **多层膜制备**：可实现多层膜的叠加，制造复杂结构以满足特定的光学或电气特性。
这些功能使得热蒸发镀膜机在材料科学、电子、光学等领域有着广泛的应用。
热蒸发镀膜机是一种常用于薄膜沉积的设备，其主要特点包括：
1. **高纯度镀膜**：由于采用高温加热源，能有效蒸发材料，沉积出的薄膜通常具有较高的纯度。
2. **良好的均匀性**：通过合理设计源与基片之间的距离，可以实现较均匀的膜层厚度。
3. **适用范围广**：可以用于多种材料的沉积，包括金属、半导体及一些绝缘材料。
4. **沉积速率可调**：通过调节加热温度和蒸发源的功率，可以实现不同沉积速率，满足不同应用需求。
5. **操作简便**：热蒸发镀膜机的操作相对简单，适合实验室及工业生产使用。
6. **适配性强**：可以与其他设备如真空系统、光学测厚仪等配合，提升沉积效果和膜层质量。
7. **成本效益高**：相较于其他镀膜技术，热蒸发镀膜机的设备投资和运行成本通常较低。
8. **膜层控制能力强**：可以通过调整蒸发时间和材料供应来实现膜厚的控制。
总的来说，热蒸发镀膜机以其优良的膜层质量和较为简单的操作，在科研和工业应用中广泛使用。
钙钛矿镀膜机是一种专门用于制造钙钛矿材料的设备，通常涉及薄膜沉积技术。这种机器的主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：通过化学气相沉积（CVD）、物相沉积（PVD）或溶胶-凝胶法等技术，将钙钛矿材料沉积在基材上，形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**：能够控制沉积过程中的温度、压力和气体流量，以确保薄膜的厚度和均匀性符合要求。
3. **材料多样性**：支持多种钙钛矿材料的沉积，包括不同的组成和结构，以适应不同应用需求。
4. **表面处理**：可以对镀膜后处理表面进行刻蚀或清洗，以改善薄膜的性能和附着力。
5. **实时监测**：配备传感器和监测系统，可以实时监测沉积状态和薄膜质量，确保生产过程的稳定性和可重复性。
6. **自动化操作**：许多钙钛矿镀膜机具有自动化功能，能够减少人工干预，提高生产效率和减少人为错误。
钙钛矿材料被广泛应用于太阳能电池、光电器件、催化剂等领域，因此，钙钛矿镀膜机在新材料研发和产业化方面具有重要意义。
蒸发舟（或称为蒸发小舟）在化学和材料科学中主要用于薄膜的制备和物质的蒸发沉积。它的基本功能包括：
1. **材料蒸发**：蒸发舟可以将固态材料加热到其蒸发温度，使其转变为气态，通过真空或惰性气体环境将蒸发出的颗粒沉积在基材上。
2. **薄膜沉积**：通过控制蒸发过程可以在基材上形成均匀、薄的薄膜，这对于制作电子器件、光学涂层等重要。
3. **材料选择性**：蒸发舟可以用于多种材料（如金属、氧化物、聚合物等）的蒸发，适应不同的应用需求。
4. **控制**：通过调整加热功率和蒸发时间，可以控制沉积的厚度和质量。
5. **提高纯度**：在真空环境中蒸发，可以减少杂质及氧化反应，得到较高纯度的沉积材料。
6. **应用广泛**：蒸发舟被广泛应用于半导体制造、光学器件、太阳能电池、传感器等领域。
通过这些功能，蒸发舟在材料的制备和研究中起到了关键的作用。
热蒸发镀膜机是一种广泛应用于薄膜沉积的设备，适用于多种领域和材料。其适用范围主要包括：
1. **光学器件**：用于生产光学薄膜，如抗反射膜、镀膜镜头等。
2. **电子元件**：在半导体、光电子、太阳能电池等领域沉积金属和绝缘层。
3. **装饰性涂层**：用于金属、玻璃、塑料等表面的装饰镀膜，以提升美观和耐腐蚀性。
4. **传感器**：在传感器制造过程中用于沉积薄膜，以实现特定的电学、光学或化学特性。
5. **硬质涂层**：用于工具、模具等表面的硬化处理，提高耐磨性和使用寿命。
6. **器械**：在某些器械中应用特殊薄膜以增强生物相容性或防污染。
7. **照明设备**：用于LED、激光器等照明设备中的薄膜沉积。
总之，热蒸发镀膜机因其操作简单、沉积速度快以及适应不同材料的能力，成为许多行业中的制造设备。
http://www.lightbule-nano.com
