真空腔室Ф246×228mm,304优质不锈钢
分子泵进口Pfeiffer分子泵
前级泵机械泵,北仪优成
真空规全量程真空规,上海玉川
溅射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶挡板)
溅射电源500W直流电源1台,300W射频电源1台
流量计20sccm/50sccm进口WARWICK
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
旁路阀GDC-25b电磁挡板阀1套
限流阀DN63mm一套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
放气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台Ф100mm,高度:60~120mm可调,旋转:0-20r/min可调,可加热至300℃
膜厚监控仪进口Inficon SQM-160单水冷探头,精度0.1Å(选配)
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35法兰一个
备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
桌面型磁控溅射镀膜仪是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于材料科学、电子器件、光学涂层等领域。其工作原理是利用磁控溅射技术,通过在真空环境中加热和激发靶材,使靶材原子或分子溅射到基材表面,形成薄膜。
### 主要特点:
1. **紧凑设计**:桌面型设计适合实验室或小型加工场所,节省空间。
2. **高沉积速率**:相较于其他镀膜技术,磁控溅射具有较高的沉积速率。
3. **均匀涂层**:具有较好的薄膜均匀性和附着力,适合需要高精度和高性能的应用。
4. **多种靶材**:可使用多种材料的靶材,例如金属、合金、氧化物等,适应不同的应用需求。
5. **可调参数**:沉积过程中的功率、气氛、压力等参数可以调节,能够实现不同膜层特性的需求。
### 应用领域:
- **电子器件**:用于制造半导体器件、太阳能电池、光电器件等。
- **光学元件**:薄膜光学涂层如抗反射膜、反射膜、滤光膜等。
- **装饰镀层**:应用于金属、塑料表面的装饰性涂层。
- **传感器和其他器件**:用于制备功能性薄膜,如传感器、导电膜等。
### 使用注意事项:
- **真空环境**:操作时需确空状态良好,以减少污染和提高膜质量。
- **安全防护**:操作时应遵循相关安全规定,佩戴适当的防护设备。
总之,桌面型磁控溅射镀膜仪是一个灵活且的工具,适合进行各类薄膜的制备和研究。
靶材是指在实验或工业生产中用于材料分析、研究或加工的材料。靶材的特点主要包括以下几个方面:
1. **成分纯度**:靶材通常需要具备高纯度,以确保实验结果的准确性和重复性。
2. **均匀性**:靶材应具备良好的均匀性,以避免在物理或化学反应过程中产生不均匀现象,导致测试结果的偏差。
3. **机械性能**:靶材的机械强度、硬度和韧性等性能要求较高,以适应不同的加工和使用条件。
4. **热稳定性**:靶材的热稳定性影响其在高温环境下的性能,尤其是在气相沉积等高温工艺中,需要良好的耐热性。
5. **反应活性**:靶材的表面性质和化学反应性对材料的沉积或反应过程有重要影响,通常需要设计出合适的表面处理以优化性能。
6. **可加工性**:靶材需易于加工成所需的形状和尺寸,方便在实验和生产中使用。
7. **成本**:靶材的经济性也是一个关键因素,需要在性能和价格之间找到平衡。
靶材的选择会根据具体应用的需求有所不同,例如在半导体制造、涂层技术和材料科学研究中,靶材的特性往往会影响到终产品的质量和性能。

PVD(物相沉积)镀膜机是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过物相沉积方法,PVD镀膜机可以在基材表面沉积金属、合金、氧化物、氮化物等薄膜材料,用于改善表面性能。
2. **表面改性**:通过镀膜,可以提高基材的耐磨性、耐腐蚀性、抗氧化性等,延长材料的使用寿命。
3. **功能涂层**:PVD镀膜可以赋予材料特定的功能,例如光学性能(反射、透射)、导电性能、热导性等,适用于电子、光学等行业。
4. **装饰效果**:在一些应用中,PVD镀膜机可用于实现装饰性涂层,提高产品的美观性和附加值。
5. **薄膜**:PVD技术能够在较低的温度下沉积量的薄膜,适合用于一些热敏材料的表面处理。
6. **环境友好**:相比于化学镀膜方法,PVD过程通常不需要使用有毒化学物质,减小了对环境的影响。
7. **可控性强**:PVD镀膜机可以控制膜厚、沉积速率等参数,实现高重复性和一致性的薄膜性能。
总之,PVD镀膜机在现代制造业中发挥着重要作用,广泛应用于电子、光学、汽车、等多个领域。

PVD(物相沉积)镀膜机是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备,广泛应用于电子、光学、工具制造和装饰等领域。其主要特点包括:
1. **薄膜质量高**:PVD工艺能够在较低的温度下沉积量、高致密度的薄膜,具有良好的附着力和均匀性。
2. **材料多样性**:PVD技术可以镀金属、合金和陶瓷材料,能够满足不同应用需求。
3. **环保性**:PVD过程通常不涉及有害化学物质,相比于化学气相沉积(CVD)等工艺更为环保。
4. **沉积速率可调**:通过调整工艺参数,可以控制薄膜的沉积速率,从而满足不同应用的需求。
5. **设备占用空间小**:PVD镀膜机相对较小,适合在空间有限的环境中使用。
6. **自动化程度高**:现代PVD设备通常具有较高的自动化水平,可以实现连续生产,提高生产效率。
7. **良好的耐磨性和耐腐蚀性**:沉积的薄膜通常具有的耐磨性和耐腐蚀性,适用于工业应用。
8. **适应性强**:可以处理不同形状和尺寸的基材,从小型零件到大型工件均可适应。
这些特点使得PVD镀膜机在多个领域得以广泛应用,并逐渐成为现代材料表面处理的重要设备。

溅射靶是一种用于薄膜沉积技术的设备,广泛应用于物理、材料科学和半导体工业。其主要功能包括:
1. **物质沉积**:通过溅射技术将靶材(如金属、合金或氧化物)中的原子或分子打出,并在基材表面形成薄膜。
2. **薄膜均匀性**:溅射靶能够在较大的面积上实现均匀的薄膜沉积,这对许多应用至关重要。
3. **控制膜厚度**:通过调整溅射时间、功率和气氛等参数,可以控制沉积膜的厚度。
4. **材料多样性**:能够处理多种不同类型的靶材,适用于不同的应用需求。
5. **低温沉积**:溅射过程通常在较低温度下进行,因此适合一些热敏材料的沉积。
6. **量膜**:溅射技术可制作高致密性、低缺陷的薄膜,适合高性能电子元件和光电器件等。
7. **大面积沉积**:有些溅射靶可以实现大面积的一次性沉积,适合工业化生产。
8. **功能薄膜制备**:可以用于制备功能性薄膜,如透明导电氧化物(TCO)、磁性薄膜及其他材料。
溅射靶的技术进步与材料科学的发展密切相关,对推动新材料的研究和应用起到了重要作用。
离子溅射仪是一种广泛应用于材料科学和表面分析的仪器,其适用范围主要包括以下几个方面:
1. **薄膜制备**:用于沉积金属、氧化物及其他材料的薄膜,广泛应用于电子器件、光电材料等领域。
2. **表面分析**:能够分析材料表面的元素组成和化学状态,适用于材料科学、物理、化学等研究领域。
3. **样品清洗**:可以去除样品表面的污染物和氧化层,提高后续分析的准确性。
4. **材料特性研究**:通过改变离子能量和溅射深度,研究材料的结构、成分及性质。
5. **半导体工业**:在半导体制造过程中,离子溅射用于清洗、蚀刻等步骤,确保良好的表面状态。
6. **光学领域**:在光学器件的制备中,离子溅射用于涂覆光学薄膜,以满足特定的光学性能。
7. **生物材料**:在生物材料的研究中,离子溅射可以用于表面改性,以改善生物相容性和性能。
总之,离子溅射仪是一种多功能的设备,适用于研究与工业应用中。
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