真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与有机蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
热蒸发镀膜机是一种广泛应用于材料科学、电子、光学等领域的设备,主要用于在基材上沉积薄膜。其工作原理是通过加热源将固态材料加热至蒸发状态,蒸发的材料在真空环境中沉积在基材表面形成薄膜。下面是一些热蒸发镀膜机的关键要素:
1. **操作原理**:热蒸发镀膜机通过高温加热使材料蒸发,蒸汽冷凝在冷却的基材上,形成所需的薄膜。
2. **真空环境**:通常在真空腔内进行,以避免蒸发材料与空气中分子发生碰撞,影响薄膜质量。
3. **材料**:可用于铝、银、金等金属以及某些绝缘材料,如氧化物、氮化物等。
4. **应用领域**:
- **光学膜**:如反射镜、滤光片等。
- **电子器件**:如集成电路、传感器等的金属连接。
- **防腐保护膜**:提升材料的耐久性。
5. **优点**:
- 设备相对简单,易于操作。
- 可以获得均匀且致密的薄膜。
- 适合大面积沉积。
6. **缺点**:
- 适用于蒸发材料的种类有限。
- 薄膜厚度控制需较高精度。
在选择热蒸发镀膜机时,需要根据具体的应用需求考虑其性能参数,如真空度、加热方式、沉积速率和膜厚均匀性等。
束源炉是一种特殊类型的核反应堆,主要用于研究和医学应用。它的特点包括:
1. **中子源**:束源炉能够产生大量的中子,这些中子可用于材料研究、核检测、医学成像及等领域。
2. **小型化**:与传统的核反应堆相比,束源炉通常较小,设计上更为紧凑,适合于实验室或等场所。
3. **低功率运行**:束源炉的运行功率相对较低,一般在几千瓦到几兆瓦之间,适合用于中子辐照实验。
4. **安全性**:由于功率较低,束源炉的设计通常具有更高的安全性,反应堆的重要系统和结构更易于控制。
5. **多用途**:除了用于基础科学研究外,束源炉还可用于材料分析、核医学以及教育等多个领域,显示出其多功能性。
6. **易于安装与维护**:束源炉一般设计得更加便捷,方便安装和日常维护。
7. **放射性废物处理**:由于其低功率的特性,所产生的放射性废物相对较少,处理相对简单。
这些特点使得束源炉在研究和应用中发挥了重要的作用。

桌面型热蒸发镀膜仪是一种常用的薄膜沉积设备,具有以下几个显著特点:
1. **紧凑设计**:桌面型热蒸发镀膜仪通常体积较小,适合在实验室或小型生产环境中使用,便于放置和操作。
2. **蒸发**:利用热源加热蒸发材料,使其蒸发并沉积在基底上,能够实现的薄膜沉积。
3. **材料多样性**:可以使用多种类型的蒸发材料,如金属、氧化物等,适应不同的应用需求。
4. **真空系统**:一般配备有真空泵,能够在相对较低的压力下工作,提高膜层的纯度和均匀性。
5. **易于控制**:搭载有控制系统,能调节蒸发速率和沉积厚度,方便用户根据实验要求进行参数设置。
6. **适应性强**:可用于不同尺寸和形状的基底,如平片、胶卷等,满足不同实验或生产需求。
7. **品质监测**:一些型号可能配备有膜厚监测系统,实时监控沉积过程,确保膜厚的一致性。
8. **维护简单**:相对而言,桌面型热蒸发镀膜仪的维护和操作相对简单,适合研究人员和技术人员使用。
总之,桌面型热蒸发镀膜仪以其灵活性、便捷性和性,在材料科学、光电器件制造及其他相关领域得到了广泛应用。

热蒸发镀膜机是一种用于物相沉积(PVD)技术的设备,主要功能包括:
1. **膜层制备**:通过加热蒸发材料,使其转变为气态,并在基材表面沉积形成薄膜。可以用于制备金属、绝缘材料或半导体薄膜。
2. **膜层厚度控制**:通过控制蒸发率和沉积时间,可以调节膜层的厚度。
3. **材料种类选择**:可以使用多种材料进行蒸发,如金、银、铝、氧化物等,以实现不同的光学或电气性能。
4. **真空环境控制**:在真空环境中进行镀膜,降低空气中的杂质对膜层质量的影响,提高膜层的致密性和均匀性。
5. **基材适应性**:可用于多种基材的镀膜,包括玻璃、塑料、金属等。
6. **功能性薄膜的制备**:可以制备不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、导电膜、光电膜等,广泛应用于光电子器件、显示器、传感器等领域。
7. **多层膜制备**:可实现多层膜的叠加,制造复杂结构以满足特定的光学或电气特性。
这些功能使得热蒸发镀膜机在材料科学、电子、光学等领域有着广泛的应用。

有机蒸发镀膜机是一种用于在基材上沉积有机薄膜的设备,广泛应用于光电器件、显示器、太阳能电池等领域。其主要特点包括:
1. **能沉积**:有机蒸发镀膜机能够地将有机材料转化为气相并沉积在基材表面,形成均匀的薄膜。
2. **良好的膜质量**:设备通常采用的真空技术,能够有效去除杂质,从而获得量的有机薄膜,具有良好的光学和电气性能。
3. **自动化程度高**:现代有机蒸发镀膜机一般配备自动化控制系统,能够控制各个工艺参数,如温度、压力、沉积速率等,提升了生产效率和膜层一致性。
4. **适应性强**:该设备可以处理类型的有机材料,包括小分子有机物和高分子聚合物,适用于不同的应用需求。
5. **设备灵活性**:有机蒸发镀膜机通常具有较高的配置灵活性,可以根据不同的工艺需求进行调整和改造,适应多种生产环境。
6. **节能环保**:部分有机蒸发镀膜机采用节能设计,降低了能源消耗,同时在材料选择和生产过程中也考虑环保因素。
7. **适用于大面积沉积**:一些型号能够实现大面积基材的沉积,满足大尺寸器件的生产需求。
综上所述,有机蒸发镀膜机凭借其、灵活和环保的特点,成为了现代电子和光电产业中的重要设备。
钙钛矿镀膜机主要适用于以下几个领域:
1. **光伏产业**:用于制造钙钛矿太阳能电池,钙钛矿材料具有优良的光电转换效率,适合用于的光伏设备。
2. **光电器件**:用于生产光电器件,如发光二极管(LED)、激光器和光探测器等。
3. **显示技术**:钙钛矿材料可应用于新型显示器件,比如量子点显示器和OLED显示器。
4. **传感器**:在传感器生产中,钙钛矿材料因其的电学特性而被应用于气体传感器、生物传感器等。
5. **薄膜电池和电容器**:钙钛矿镀膜技术也可用于制造薄膜电池和电容器等储能装置。
6. **纳米技术**:在纳米材料的研究和应用中也可能涉及到钙钛矿镀膜。
钙钛矿镀膜机可以实现高精度的薄膜沉积,满足不同材料和结构的需求,从而广泛应用于以上研究与产业领域。
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