真空腔室Ф246×228mm，304优质不锈钢
分子泵进口Pfeiffer分子泵
前级泵机械泵，北仪优成
真空规全量程真空规，上海玉川
溅射靶Ф2英寸永磁靶2支（含靶挡板）
溅射电源500W直流电源1台，300W射频电源1台
流量计20sccm/50sccm进口WARWICK
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
旁路阀GDC-25b电磁挡板阀1套
限流阀DN63mm一套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
放气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台Ф100mm，高度：60～120mm可调，旋转：0-20r/min可调，可加热至300℃
膜厚监控仪进口Inficon SQM-160单水冷探头，精度0.1Å（选配）
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35法兰一个
备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
离子溅射仪（Ion Sputtering Apparatus）是一种用于材料沉积和表面处理的设备，主要用于薄膜的制备和分析。该仪器的基本原理是利用高能离子轰击靶材，将靶材表面的原子或分子打出，然后这些被溅射出来的粒子可以沉积在衬底上，形成薄膜。
### 离子溅射仪的工作原理
1. **离子源**：先，通过离子源产生高能离子（如氩离子），这些离子被加速到高能状态。
2. **离子轰击**：高能离子被聚焦并轰击靶材，造成靶材表面原子被打出。
3. **溅射效应**：被打出的原子或分子在真空环境中扩散，终沉积到衬底上。
4. **薄膜沉积**：在衬底上形成所需的薄膜，薄膜的厚度和性质可以通过调节参数（如离子能量、轰击时间等）进行控制。
### 应用
离子溅射仪在许多领域有广泛的应用，包括：
- 半导体制造：用于制造集成电路和其他微电子器件。
- 光学涂层：用于光学器件的抗反射涂层和反射涂层。
- 功能材料：用于制备功能薄膜，例如传感器、太阳能电池等。
- 材料科学研究：用于材料的表面改性和性能测试。
### 优点
- 能够控制薄膜的厚度和成分。
- 提供量的薄膜沉积。
- 适用于材料。
### 结论
离子溅射仪是现代材料科学和工程中重要的工具之一，通过的控制和的沉积方法，为许多高科技产品的制造提供了支持。
PVD（物相沉积）镀膜机是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备。其主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：通过物相沉积方法，PVD镀膜机可以在基材表面沉积金属、合金、氧化物、氮化物等薄膜材料，用于改善表面性能。
2. **表面改性**：通过镀膜，可以提高基材的耐磨性、耐腐蚀性、抗氧化性等，延长材料的使用寿命。
3. **功能涂层**：PVD镀膜可以赋予材料特定的功能，例如光学性能（反射、透射）、导电性能、热导性等，适用于电子、光学等行业。
4. **装饰效果**：在一些应用中，PVD镀膜机可用于实现装饰性涂层，提高产品的美观性和附加值。
5. **薄膜**：PVD技术能够在较低的温度下沉积量的薄膜，适合用于一些热敏材料的表面处理。
6. **环境友好**：相比于化学镀膜方法，PVD过程通常不需要使用有毒化学物质，减小了对环境的影响。
7. **可控性强**：PVD镀膜机可以控制膜厚、沉积速率等参数，实现高重复性和一致性的薄膜性能。
总之，PVD镀膜机在现代制造业中发挥着重要作用，广泛应用于电子、光学、汽车、等多个领域。
溅射靶是一种用于薄膜沉积技术的设备，广泛应用于物理、材料科学和半导体工业。其主要功能包括：
1. **物质沉积**：通过溅射技术将靶材（如金属、合金或氧化物）中的原子或分子打出，并在基材表面形成薄膜。
2. **薄膜均匀性**：溅射靶能够在较大的面积上实现均匀的薄膜沉积，这对许多应用至关重要。
3. **控制膜厚度**：通过调整溅射时间、功率和气氛等参数，可以控制沉积膜的厚度。
4. **材料多样性**：能够处理多种不同类型的靶材，适用于不同的应用需求。
5. **低温沉积**：溅射过程通常在较低温度下进行，因此适合一些热敏材料的沉积。
6. **量膜**：溅射技术可制作高致密性、低缺陷的薄膜，适合高性能电子元件和光电器件等。
7. **大面积沉积**：有些溅射靶可以实现大面积的一次性沉积，适合工业化生产。
8. **功能薄膜制备**：可以用于制备功能性薄膜，如透明导电氧化物（TCO）、磁性薄膜及其他材料。
溅射靶的技术进步与材料科学的发展密切相关，对推动新材料的研究和应用起到了重要作用。
靶材通常是在物理、化学和材料科学等领域中使用的一种材料，主要具有以下功能：
1. **靶向作用**：在粒子物理实验中，靶材可用于吸收入射粒子并产生可观测的反应，如在粒子加速器中用作靶。
2. **材料沉积**：在薄膜沉积技术中，靶材用于将材料蒸发或溅射到基底上，形成薄膜。这在电子器件、光学涂层等应用中重要。
3. **反应介质**：在化学反应中，靶材可以作为反应物，产生相应的化学反应或物理变化。
4. **能量传输**：靶材能够接收入射粒子的能量并将其转化为其他形式的能量，或以其他方式传递能量。
5. **示踪和检测**：在放射性同位素研究中，靶材可以用作示踪剂，帮助检测和分析现象。
总之，靶材在科学研究和工业应用中扮演着重要的角色，其具体功能根据应用场景的不同而有所差异。
小型磁控溅射镀膜机是一种常用于材料表面处理的设备，它的主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：能够在基材表面沉积金属、绝缘体或半导体薄膜，广泛应用于电子、光学和材料科学等领域。
2. **均匀性**：通过磁控溅射技术，能够实现良好的膜厚均匀性和致密性，有助于提高薄膜性能。
3. **可调性**：用户可以根据不同的需求调整沉积参数，如功率、气压和气体成分，以获得的沉积效果。
4. **多种材料选择**：支持多种靶材的使用，能够沉积不同材料的薄膜，如铝、铜、氮化硅等。
5. **快速成膜**：小型磁控溅射镀膜机相对快速，适合小批量实验或研发。
6. **低温沉积**：允许在较低温度下进行沉积，有助于减少基材的热负荷，适合对热敏感材料的处理。
7. **简单操作**：由于其结构紧凑且操作相对简单，适合实验室和小规模生产使用。
这些功能使得小型磁控溅射镀膜机在科研、工业和教学等多个领域中得到广泛应用。
PVD（物相沉积）镀膜机广泛应用于多个领域，其适用范围包括但不限于：
1. **电子行业**：用于制造半导体器件、电容器、导电膜、光学器件等。
2. **太阳能行业**：用于光伏电池的抗反射膜和导电膜的沉积。
3. **光学元件**：用于制造镜头、滤光片、光学涂层等，提高光学性能和耐磨性。
4. **工具和模具**：用于在工具和模具表面镀膜，以提高耐磨性、耐腐蚀性和降低摩擦。
5. **装饰和饰品**：用于金属和非金属表面的装饰性镀膜，如汽车配件、家居用品等。
6. **器械**：用于器械表面镀膜，以提高生物相容性和性能。
7. **和**：在材料上镀膜，以提高其性能和耐久性。
PVD技术因其可以沉积多种材料且能够控制膜的厚度、组成和质量，受到广泛青睐。
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