真空腔室Ф246×260mm，304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源（兼容金属与有机蒸发）3组，可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台，供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm，具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
蒸发舟是一种用于材料蒸发沉积的设备，常见于真空蒸发和薄膜制备工艺中。蒸发颗粒通常指的是在这一过程中所使用的材料，经过加热后转化为气态，再在基材上冷凝形成薄膜或涂层。
在蒸发过程中，蒸发舟内的材料（通常是金属或其他合金）会被加热到其熔点以上，材料蒸发后形成气体，随后这些气体在冷却的基材表面凝结，形成薄膜。蒸发舟的设计和材料选择对蒸发效率和膜的质量至关重要。
如果你对蒸发舟的具体应用、材料选择或其他相关问题有兴趣，可以提供更详细的信息，我将为你解答。
蒸发舟是一种常用于材料科学和薄膜制备的设备，特别是在物相沉积（PVD）技术中。蒸发舟的主要作用是通过加热将固态材料转化为气态，以实现薄膜的沉积。蒸发舟蒸发颗粒的特点主要包括以下几个方面：
1. **均匀性**：蒸发过程中，颗粒的蒸发速率较为均匀，能够在基底上形成均匀的薄膜。
2. **可控性**：通过调节加热温度和加热时间，可以控制蒸发速率，从而调节薄膜的厚度和组成。
3. **材料兼容性**：蒸发舟可以用于多种不同材料的蒸发，如金属、氧化物和高分子材料等，适应性较强。
4. **颗粒尺寸**：蒸发颗粒的尺寸通常较小，有助于加快蒸发速度，提升薄膜的沉积效率。
5. **高纯度**：蒸发舟中使用的材料一般要求高纯度，以确保终薄膜的性能和质量。
6. **热稳定性**：蒸发舟本身需要具备良好的热稳定性，以承受高温而不发生变形或熔化。
7. **气氛控制**：蒸发实验通常在真空或特定气氛中进行，以避免反应杂质的影响，确保颗粒的质量。
这些特点使得蒸发舟在真空蒸发和其他沉积技术中得到了广泛应用。
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备，广泛应用于电子、光学和材料科学等领域。其主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：电阻蒸镀机能够将材料（如金属、合金、氧化物等）以蒸发形式沉积在基材表面，形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**：设备通常配备的温度控制和蒸发速率监测系统，可以控制薄膜的厚度和均匀性。
3. **多种材料兼容**：电阻蒸镀机可以用于多种类型的材料沉积，包括金属（如铝、金、银）、合金以及一些特定的化合物。
4. **真空环境**：通过在真空环境中进行沉积，可以减少气体分子对薄膜沉积的影响，从而提高薄膜的品质和性能。
5. **可调参数**：用户可以根据实际需求调整沉积温度、速率、时间等参数，以实现不同的应用效果。
6. **应用广泛**：电阻蒸镀机常用于制造光学元件、半导体器件、传感器、太阳能电池等多种产品。
7. **自动化程度高**：现代电阻蒸镀机通常具备计算机控制系统，可以实现自动化操作，提高生产效率。
总之，电阻蒸镀机是一种重要的薄膜制备工具，其优越的性能使其在科学研究和工业生产中都得到了广泛应用。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种用于薄膜沉积的设备，广泛应用于材料科学、光学、电子工程以及其他领域。其主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：通过热蒸发的方法，将材料加热到其蒸发点，使其以蒸气形式喷发并在基材表面凝结形成薄膜。
2. **膜厚控制**：设备通常配备有膜厚监测系统（如晶体振荡器），可实时监测沉积膜的厚度，确保膜厚达到预期要求。
3. **材料选择**：可以使用多种材料进行沉积，如金属、氧化物、氮化物等，适应不同的应用需求。
4. **真空环境**：设备在高真空环境中操作，以减少气体分子对沉积薄膜的干扰，提高膜的质量。
5. **基材加热**：某些设备可以加热基材，提高材料的附着力和薄膜的均匀性，改善薄膜质量。
6. **多层沉积**：能够进行多层膜的沉积，适用于需要不同功能层叠加的应用。
7. **阀门控制和气体引入**：可以控制沉积环境中的气体成分，以便进行特定的化学反应或改善膜的性能。
8. **用户界面**：一般配备有友好的用户界面，方便操作人员设置参数、监控过程和记录数据。
这种设备通常适合实验室研究和小规模生产，因其体积小、操作简单而受到广泛欢迎。
电阻蒸镀机是一种广泛应用于薄膜沉积技术的设备，主要用于在基材表面沉积金属或其他材料。其主要特点包括：
1. **能**：电阻蒸镀机能够快速有效地将材料蒸发并沉积到基材上，适合大规模生产和连续作业。
2. **控制精度高**：该设备通常配备精密的电流和温度控制系统，可以准确调节蒸发过程中材料的蒸发速率，从而实现均匀的薄膜厚度。
3. **材料适应性强**：电阻蒸镀机可以使用多种金属和合金材料，包括铝、铜、银、金等。
4. **真空环境**：为了提高沉积质量，电阻蒸镀过程通常在真空环境下进行，减少了氧化和污染的风险。
5. **简便的操作**：相较于其他蒸镀技术，电阻蒸镀机的操作相对简单，易于实现自动化。
6. **可实现多层沉积**：通过控制同时蒸发不同材料，电阻蒸镀机可以实现多层膜的沉积，适用于复杂的光电器件和微电子器件的制造。
7. ****：相较于其他一些物相沉积技术，电阻蒸镀机的设备和运行成本较低。
8. **环保性**：电阻蒸镀过程中产生的废物较少，对环境的影响相对较小。
这些特点使电阻蒸镀机在半导体、光电材料、光学涂层等领域获得了广泛应用。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种广泛应用于材料科学、电子、光电和薄膜技术等领域的设备。其主要适用范围包括：
1. **光学镀膜**：用于制作抗反射涂层、增透膜、反射镜等光学元件。
2. **电子器件**：可用于制备半导体器件中的金属层、绝缘层和其他功能膜，比如太阳能电池、发光二极管（LED）等。
3. **硬涂层**：在工具、模具等表面镀膜，以提高其耐磨性、抗腐蚀性和整体性能。
4. **传感器**：在气体传感器、湿度传感器等的开发中，利用镀膜技术提高传感器的灵敏度和选择性。
5. **薄膜材料研究**：用于基础研究，探索材料的薄膜生长行为及其物理性质。
6. **实验室应用**：适合小批量生产和实验室研究，可以在实验室环境中进行多种不同材料的蒸发镀膜。
7. **装饰镀膜**：用于生产装饰性薄膜，如金属光泽涂层等。
桌面型热蒸发镀膜仪以其操作简便、成本相对较低，适合科研、教学和小规模生产等多种场合。
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