真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304优质不锈钢
观察窗Φ100mm,含磁力挡板
屏蔽板不锈钢,便于拆卸清洁、更换
水冷蒸发电极8根组成4组
金属蒸发电源功率3kW
复合分子泵JTFB-650Z脂润滑分子泵,抽速650L/s
直联高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s
气动高真空插板阀DN150
前级阀/旁路阀DN40
放气阀φ10 电磁充气阀
数显复合真空计两低一高,含规管
波纹管、真空管道材质SUS304不锈钢
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于半导体、光电、 optics 等领域。它的基本工作原理是通过电阻加热将材料(通常是金属或合金)加热到蒸发温度,使其从固态转变为气态,然后冷却后在基材上形成薄膜。
以下是电阻蒸镀机的一些关键组成部分和特点:
1. **电阻加热源**:通过电阻丝或钨丝加热蒸发源,相关温度能够控制材料的蒸发速率。
2. **真空室**:在真空环境下进行蒸镀可以减少气体分子的干扰,从而提高薄膜的质量和纯度。
3. **蒸发源**:放置待蒸发材料的地方,常用的材料有铝、金、银等。
4. **基材夹持系统**:用于固定待涂覆的物体,确保薄膜均匀性。
5. **厚度监测器**:通常使用晶体监测器(如QCM)来实时监测薄膜的厚度,确保达到预定的沉积量。
6. **冷却系统**:在蒸镀过程中,冷却系统可以防止设备过热,保证设备和材料的稳定性。
电阻蒸镀机具有操作简便、控制准确和沉积均匀等优点,适合大面积和高均匀性薄膜的制备。由于其热沉积的特性,相比其他蒸镀方式(例如电子束蒸镀),更适合处理低熔属和合金。
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光电、材料科学等领域。它的主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过电阻加热将材料蒸发,然后在基材上形成薄膜。
2. **高精度控制**:可以控制沉积速率和膜厚,使其适应不同需求的薄膜特性。
3. **气氛控制**:在真空或特定气氛下进行蒸镀,以提高薄膜的质量和性能。
4. **多材料蒸镀**:可同时或不同时间段内蒸发多种材料,以实现多层薄膜的沉积。
5. **适用于多种材料**:能够处理多种金属、合金及一些陶瓷材料。
6. **高均匀性**:通过优化设备设计,沉积的薄膜一般具有较高的均匀性和一致性。
7. **温度监控**:设备通常配备温度监控系统,以确保基材和蒸发材料的温度适宜。
电阻蒸镀机因其、以及能够制作量薄膜的优点,成为研究和工业应用中的重要工具。

热蒸发手套箱一体机是一种用于材料制备和表面处理的设备,广泛应用于材料科学、半导体、光电器件等领域。其特点包括:
1. **一体化设计**:将热蒸发设备与手套箱结合为一体,有效减少了样品在转移过程中的污染风险。
2. **高纯度环境**:手套箱内部通常可维持在低湿度和惰性气体氛围(如氮气或氩气),有助于防止样品氧化和水分侵入。
3. **控制**:设备通常配备温度、压力和蒸发速率等多种参数的实时监控和调节功能,以确保材料沉积的性。
4. **易于操作**:手套箱设计便于操作人员进行样品的准备、放置和观察,操作方便且安全。
5. **多功能性**:除了热蒸发功能,部分设备还具备其他处理功能,如光刻、刻蚀等,提升了实验的灵活性。
6. **样品多样性**:能够支持多种材料的蒸发沉积,包括金属、氧化物、聚合物等,适用范围广。
7. **提高实验效率**:集成化设计减少了样品处理时间,提高了实验的整体效率。
8. **低污染风险**:由于手套的封闭性,有效避免了外部污染源对样品的影响,保证实验结果的可靠性。
这些特点使得热蒸发手套箱一体机在高精度材料研究和开发中成为一个重要的工具。

有机蒸发镀膜机是一种用于将有机材料(如有机半导体、发光材料等)蒸发并沉积到基材上的设备。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**: 可以在基材表面均匀沉积有机薄膜,常用于有机电子设备如OLED显示器、太阳能电池等的制作。
2. **真空蒸发**: 在高真空环境下进行蒸发,避免了材料的氧化和污染,从而提高薄膜的质量。
3. **可控性**: 通过调整蒸发速率、温度和沉积时间,可以控制薄膜的厚度和均匀性。
4. **材料兼容性**: 能够处理多种有机材料,包括聚合物、有机小分子等,适用范围广泛。
5. **多层结构**: 可以实现多层镀膜,从而构建复杂的光电结构,满足不同器件的需求。
6. **批量生产能力**: 适合大规模生产,具备的生产能力。
7. **自动化控制**: 一些设备配备自动化系统,可以实现自动加载、监测和控制,提高生产效率和稳定性。
总的来说,有机蒸发镀膜机在有机光电器件的制造中发挥着至关重要的作用。

钙钛矿镀膜机是一种用于制备钙钛矿材料薄膜的设备,广泛应用于光伏、光电和其他相关领域。以下是钙钛矿镀膜机的一些主要特点:
1. **能**:钙钛矿镀膜机能够快速制备量的钙钛矿薄膜,提升生产效率。
2. **均匀性**:设备设计确保薄膜厚度均匀,能够满足高性能器件的要求。
3. **多种制备方法**:钙钛矿镀膜机通常支持多种薄膜制备技术,如溶液法、蒸发法和喷涂法等,提供灵活的工艺选择。
4. **温控系统**:设备配有的温控系统,以确保在镀膜过程中温度稳定,避免材料性质受到影响。
5. **气氛控制**:部分钙钛矿镀膜机可以在惰性气体或特定气氛下工作,减少氧化和其他不利反应。
6. **自动化程度高**:许多钙钛矿镀膜机具有高度自动化功能,减少人工干预,提高操作安全性和性。
7. **易于集成**:设备通常设计便于与其他测试和后处理设备集成,形成完整的生产线。
8. **可扩展性**:根据生产需求,可以灵活扩展规模,以满足不同量产要求。
这些特点使钙钛矿镀膜机在现代材料研究和工业生产中成为重要的设备之一。
热蒸发镀膜机是一种广泛应用于材料科学、半导体工业、光学器件制造等多个领域的设备。其适用范围包括但不限于以下几个方面:
1. **光学镀膜**:用于光学透镜、滤光片、反射镜等光学元件的镀膜,提升其透过率和反射率。
2. **电子器件**:在半导体器件制造中,用于沉积金属或绝缘材料,形成电路图案。
3. **太阳能电池**:用于光伏组件的薄膜沉积,提高能量转化效率。
4. **金属镀层**:在材料表面形成金属层,以增强导电性、抗腐蚀性等。
5. **材料研究**:用于新材料的开发和性能测试,研究薄膜特性及其应用。
6. **装饰性镀层**:在珠宝、钟表等产品上进行装饰性镀层,提升外观及耐用性。
由于热蒸发镀膜机具有良好的沉积均匀性和控制精度,因此在各个领域中都受到广泛应用。
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