真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与有机蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
钙钛矿镀膜机是一种用于生产钙钛矿材料薄膜的设备,钙钛矿材料在光伏、发光器件、催化和传感器等领域有广泛应用。钙钛矿通常是指具有ABO3型晶体结构的化合物,常见的钙钛矿材料包括钙钛矿型太阳能电池(如CH3NH3PbI3)等。
钙钛矿镀膜机的常见工作原理包括以下几种技术:
1. **溶液法(Spin Coating)**:通过将溶液滴加到基底上,然后通过高速旋转使溶液均匀铺展,终形成薄膜。
2. **真空蒸镀**:利用真空环境下的蒸发技术,将钙钛矿材料蒸发并沉积到基底上,形成薄膜。
3. **脉冲激光沉积(PLD)**:使用激光脉冲击材,将材料转化为气相,并在基底上沉积形成薄膜。
4. **化学气相沉积(CVD)**:通过气相反应,在基底上沉积钙钛矿材料。
钙钛矿镀膜机通常配备了温度控制、气氛控制、旋转速度调节等功能,以保证薄膜的均匀性和性能。同时,设备的自动化程度也是一个重要的考虑因素,以提高生产效率。
在选择钙钛矿镀膜机时,需要考虑的因素包括所需薄膜的厚度、均匀性、材料类型及生产规模等。
热蒸发镀膜机是一种常用于薄膜沉积的设备,其主要特点包括:
1. **高纯度镀膜**:由于采用高温加热源,能有效蒸发材料,沉积出的薄膜通常具有较高的纯度。
2. **良好的均匀性**:通过合理设计源与基片之间的距离,可以实现较均匀的膜层厚度。
3. **适用范围广**:可以用于多种材料的沉积,包括金属、半导体及一些绝缘材料。
4. **沉积速率可调**:通过调节加热温度和蒸发源的功率,可以实现不同沉积速率,满足不同应用需求。
5. **操作简便**:热蒸发镀膜机的操作相对简单,适合实验室及工业生产使用。
6. **适配性强**:可以与其他设备如真空系统、光学测厚仪等配合,提升沉积效果和膜层质量。
7. **成本效益高**:相较于其他镀膜技术,热蒸发镀膜机的设备投资和运行成本通常较低。
8. **膜层控制能力强**:可以通过调整蒸发时间和材料供应来实现膜厚的控制。
总的来说,热蒸发镀膜机以其优良的膜层质量和较为简单的操作,在科研和工业应用中广泛使用。

钙钛矿镀膜机是一种专门用于制造钙钛矿材料的设备,通常涉及薄膜沉积技术。这种机器的主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过化学气相沉积(CVD)、物相沉积(PVD)或溶胶-凝胶法等技术,将钙钛矿材料沉积在基材上,形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**:能够控制沉积过程中的温度、压力和气体流量,以确保薄膜的厚度和均匀性符合要求。
3. **材料多样性**:支持多种钙钛矿材料的沉积,包括不同的组成和结构,以适应不同应用需求。
4. **表面处理**:可以对镀膜后处理表面进行刻蚀或清洗,以改善薄膜的性能和附着力。
5. **实时监测**:配备传感器和监测系统,可以实时监测沉积状态和薄膜质量,确保生产过程的稳定性和可重复性。
6. **自动化操作**:许多钙钛矿镀膜机具有自动化功能,能够减少人工干预,提高生产效率和减少人为错误。
钙钛矿材料被广泛应用于太阳能电池、光电器件、催化剂等领域,因此,钙钛矿镀膜机在新材料研发和产业化方面具有重要意义。

束源炉是一种特殊类型的核反应堆,主要用于研究和医学应用。它的特点包括:
1. **中子源**:束源炉能够产生大量的中子,这些中子可用于材料研究、核检测、医学成像及等领域。
2. **小型化**:与传统的核反应堆相比,束源炉通常较小,设计上更为紧凑,适合于实验室或等场所。
3. **低功率运行**:束源炉的运行功率相对较低,一般在几千瓦到几兆瓦之间,适合用于中子辐照实验。
4. **安全性**:由于功率较低,束源炉的设计通常具有更高的安全性,反应堆的重要系统和结构更易于控制。
5. **多用途**:除了用于基础科学研究外,束源炉还可用于材料分析、核医学以及教育等多个领域,显示出其多功能性。
6. **易于安装与维护**:束源炉一般设计得更加便捷,方便安装和日常维护。
7. **放射性废物处理**:由于其低功率的特性,所产生的放射性废物相对较少,处理相对简单。
这些特点使得束源炉在研究和应用中发挥了重要的作用。

热蒸发镀膜机是一种用于物相沉积(PVD)技术的设备,主要功能包括:
1. **膜层制备**:通过加热蒸发材料,使其转变为气态,并在基材表面沉积形成薄膜。可以用于制备金属、绝缘材料或半导体薄膜。
2. **膜层厚度控制**:通过控制蒸发率和沉积时间,可以调节膜层的厚度。
3. **材料种类选择**:可以使用多种材料进行蒸发,如金、银、铝、氧化物等,以实现不同的光学或电气性能。
4. **真空环境控制**:在真空环境中进行镀膜,降低空气中的杂质对膜层质量的影响,提高膜层的致密性和均匀性。
5. **基材适应性**:可用于多种基材的镀膜,包括玻璃、塑料、金属等。
6. **功能性薄膜的制备**:可以制备不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、导电膜、光电膜等,广泛应用于光电子器件、显示器、传感器等领域。
7. **多层膜制备**:可实现多层膜的叠加,制造复杂结构以满足特定的光学或电气特性。
这些功能使得热蒸发镀膜机在材料科学、电子、光学等领域有着广泛的应用。
手套箱一体机(Glove Box)是一种封闭式操作设备,广泛应用于需要在无尘、无氧、无污染环境下进行实验或操作的领域。其主要适用范围包括:
1. **化学实验室**:用于处理敏感化学品或危险化学品,防止气体泄漏或与空气中的水分和氧气反应。
2. **材料科学**:在合成新材料、存储和制造高敏感性材料(如电池材料、光电材料)时使用,避免与空气接触。
3. **生物医学研究**:在无菌环境下进行细胞培养、基因编辑等实验,确保样品不受外界污染。
4. **制药工业**:用于药物的研发与生产过程,确保符合严格的无菌和无尘要求。
5. **半导体行业**:在集成电路和电子元件的生产过程中,避免灰尘和杂质影响产品质量。
6. **核能和放射性材料研究**:用于安全处理放射性物质,防止泄漏。
7. **环境科学**:用于处理和分析污染物样本,确保实验条件可控。
总之,手套箱一体机适合需要高度控制环境的科研和工业应用。
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