襄阳离子溅射仪
  • 襄阳离子溅射仪
  • 襄阳离子溅射仪
  • 襄阳离子溅射仪

产品描述

真空腔室Ф246×228mm,304优质不锈钢 分子泵进口Pfeiffer分子泵 前级泵机械泵,北仪优成 真空规全量程真空规,上海玉川 溅射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶挡板) 溅射电源500W直流电源1台,300W射频电源1台 流量计20sccm/50sccm进口WARWICK 控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套 冷水机LX-300 前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套 旁路阀GDC-25b电磁挡板阀1套 限流阀DN63mm一套 充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套 放气阀Φ6mm,电磁截止阀1套 基片台Ф100mm,高度:60~120mm可调,旋转:0-20r/min可调,可加热至300℃ 膜厚监控仪进口Inficon SQM-160单水冷探头,精度0.1Å(选配) 真空管路波纹管、真空管道等1套 设备机架机电一体化 预留接口CF35法兰一个 备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
小型磁控溅射镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于光电、电子、材料科学等领域。该设备主要通过磁控溅射技术,将靶材的原子或分子打入气相环境中,从而在基材表面形成薄膜。
### 主要特点:
1. **紧凑型设计**:适合实验室和小规模生产使用,节省空间。
2. **高沉积速率**:能够快速形成薄膜,提高生产效率。
3. **均匀性好**:提供均匀的薄膜质量,适合高精度要求的应用。
4. **可调参数**:可以调节气体流量、功率、沉积时间等参数,以满足不同材料和薄膜厚度的需求。
5. **多种靶材支持**:可兼容多种靶材,如金属、合金、氧化物等,应用范围广泛。
### 应用领域:
- **电子元件**:用于制作电路板、传感器等。
- **光学涂层**:用于镜头、显示器等光学产品的防反射或增强膜。
- **装饰性薄膜**:用于产品的外观提升。
### 操作注意事项:
- 确保室内通风良好,避免气体泄漏。
- 操作人员需佩戴相关防护装备。
- 定期检查设备状态,保持良好的工作环境。
如果您有更具体的问题或需求,可以提供更多信息,我会尽力帮助您。
离子溅射仪是一种用于材料表面分析和处理的设备,主要功能包括:
1. **材料沉积**:可以用于在基材表面上沉积薄膜,常见于半导体、光电子器件和表面涂层的制造。
2. **表面分析**:通过溅射过程,可以分析材料的成分和结构,常用于质谱分析和表面分析技术,如时间飞行质谱(TOF-MS)。
3. **清洁和去除涂层**:可以去除材料表面的污染物或旧涂层,为后续处理做好准备。
4. **再结晶和表面改性**:可以通过离子轰击改变材料的表面状态,如增加薄膜的粘附力、改善光学性能等。
5. **刻蚀**:在微电子工艺中,用于刻蚀特定区域,形成所需的图案和结构。
6. **离子 implantation**:将离子注入材料中,以改变其电学、光学或机械性质。
离子溅射仪在材料科学、微电子、纳米技术等领域有着广泛的应用。
襄阳离子溅射仪
靶材是指在实验或工业生产中用于材料分析、研究或加工的材料。靶材的特点主要包括以下几个方面:
1. **成分纯度**:靶材通常需要具备高纯度,以确保实验结果的准确性和重复性。
2. **均匀性**:靶材应具备良好的均匀性,以避免在物理或化学反应过程中产生不均匀现象,导致测试结果的偏差。
3. **机械性能**:靶材的机械强度、硬度和韧性等性能要求较高,以适应不同的加工和使用条件。
4. **热稳定性**:靶材的热稳定性影响其在高温环境下的性能,尤其是在气相沉积等高温工艺中,需要良好的耐热性。
5. **反应活性**:靶材的表面性质和化学反应性对材料的沉积或反应过程有重要影响,通常需要设计出合适的表面处理以优化性能。
6. **可加工性**:靶材需易于加工成所需的形状和尺寸,方便在实验和生产中使用。
7. **成本**:靶材的经济性也是一个关键因素,需要在性能和价格之间找到平衡。
靶材的选择会根据具体应用的需求有所不同,例如在半导体制造、涂层技术和材料科学研究中,靶材的特性往往会影响到终产品的质量和性能。
襄阳离子溅射仪
PVD(物相沉积)镀膜机是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过物相沉积方法,PVD镀膜机可以在基材表面沉积金属、合金、氧化物、氮化物等薄膜材料,用于改善表面性能。
2. **表面改性**:通过镀膜,可以提高基材的耐磨性、耐腐蚀性、抗氧化性等,延长材料的使用寿命。
3. **功能涂层**:PVD镀膜可以赋予材料特定的功能,例如光学性能(反射、透射)、导电性能、热导性等,适用于电子、光学等行业。
4. **装饰效果**:在一些应用中,PVD镀膜机可用于实现装饰性涂层,提高产品的美观性和附加值。
5. **薄膜**:PVD技术能够在较低的温度下沉积量的薄膜,适合用于一些热敏材料的表面处理。
6. **环境友好**:相比于化学镀膜方法,PVD过程通常不需要使用有毒化学物质,减小了对环境的影响。
7. **可控性强**:PVD镀膜机可以控制膜厚、沉积速率等参数,实现高重复性和一致性的薄膜性能。
总之,PVD镀膜机在现代制造业中发挥着重要作用,广泛应用于电子、光学、汽车、等多个领域。
襄阳离子溅射仪
样品台,通常用于实验室、工业生产和研究等领域,具有以下几个特点:
1. **稳定性**:样品台通常设计得稳定,以确保在进行实验或观察时,样品受到外部震动或干扰的影响。
2. **调整功能**:许多样品台具有高度可调节性,允许用户根据需要调整样品的位置和角度,以便于观察和测量。
3. **易清洁性**:样品台通常采用易于清洗的材料,能够防止样品的污染,同时在使用过程中保持卫生。
4. **多功能性**:某些样品台配备了不同的附件和配件,支持实验需求,例如光学显微镜、测量仪器等。
5. **适应性强**:样品台的设计往往可以根据不同类型的样品(如液体、固体、粉末等)进行调整,以适应不同的实验需求。
6. **材料选用**:样品台通常采用耐腐蚀、耐高温或其他特殊材料,以适应不同实验环境。
7. **标记系统**:许多样品台上会有标记或者刻度,使用户能够定位样品位置。
8. **光学性能**:在光学实验中,样品台可能会考虑透光性和反射性,以确保观测效果的清晰度。
这些特点使得样品台在不同领域的应用中显得尤为重要,能够提高实验的性和效率。
离子溅射仪是一种广泛应用于材料科学和表面分析的仪器,其适用范围主要包括以下几个方面:
1. **薄膜制备**:用于沉积金属、氧化物及其他材料的薄膜,广泛应用于电子器件、光电材料等领域。
2. **表面分析**:能够分析材料表面的元素组成和化学状态,适用于材料科学、物理、化学等研究领域。
3. **样品清洗**:可以去除样品表面的污染物和氧化层,提高后续分析的准确性。
4. **材料特性研究**:通过改变离子能量和溅射深度,研究材料的结构、成分及性质。
5. **半导体工业**:在半导体制造过程中,离子溅射用于清洗、蚀刻等步骤,确保良好的表面状态。
6. **光学领域**:在光学器件的制备中,离子溅射用于涂覆光学薄膜,以满足特定的光学性能。
7. **生物材料**:在生物材料的研究中,离子溅射可以用于表面改性,以改善生物相容性和性能。
总之,离子溅射仪是一种多功能的设备,适用于研究与工业应用中。
http://www.lightbule-nano.com
产品推荐

Development, design, production and sales in one of the manufacturing enterprises

您是第118774位访客

版权所有 ©2025-02-09 京ICP备2024095103号-1 北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司 保留所有权利.

技术支持: 八方资源网 免责声明 管理员入口 网站地图