真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304优质不锈钢
观察窗Φ100mm,含磁力挡板
屏蔽板不锈钢,便于拆卸清洁、更换
水冷蒸发电极8根组成4组
金属蒸发电源功率3kW
复合分子泵JTFB-650Z脂润滑分子泵,抽速650L/s
直联高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s
气动高真空插板阀DN150
前级阀/旁路阀DN40
放气阀φ10 电磁充气阀
数显复合真空计两低一高,含规管
波纹管、真空管道材质SUS304不锈钢
蒸发舟是一种用于物相沉积(PVD)或蒸发沉积的设备,主要用于将固体材料蒸发并沉积到基片上,形成薄膜。蒸发舟通常由耐高温材料制成,能够承受高温下的操作。
在蒸发过程中的固体颗粒会由于加热而转变为蒸气,随着温度的升高,颗粒会在瞬间蒸发并向基片表面移动。经过冷却,蒸气会在基片表面凝结,形成所需的薄膜结构。
蒸发舟的使用广泛应用于半导体、光电、光学薄膜以及许多其他材料的沉积工艺中。因为其较高的沉积速率和良好的薄膜均匀性,蒸发舟成为量薄膜制造的重要工具。
热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学、材料科学等领域。其主要特点包括:
1. **高纯度材料沉积**:通过热蒸发可以有效地沉积高纯度的薄膜,减少杂质的影响。
2. **良好的膜质量**:热蒸发镀膜技术能够形成均匀且致密的薄膜,具备较好的光学和电气性能。
3. **高沉积速率**:相较于其他镀膜技术,热蒸发具有较高的沉积速率,适合大规模生产。
4. **温度控制灵活**:设备通常配备精密的温度控制系统,可以根据不同材料的特性调整加热温度。
5. **适用广泛**:可以镀覆多种材料,如金属、合金、半导体及绝缘材料等,适用性强。
6. **工艺简单**:热蒸发镀膜工艺相对简单,易于操作和控制。
7. **真空环境**:通常在真空环境中进行,有效减少气体污染,提高膜层质量。
8. **设备投资较低**:相对于其他镀膜设备(如磁控溅射镀膜机),热蒸发镀膜机的设备成本相对较低。
9. **可控性强**:可以通过改变蒸发源的距离、功率和基片温度等来调节膜层的厚度和属性。
总之,热蒸发镀膜机是一种、灵活且经济的薄膜沉积设备,适合应用需求。

热蒸镀是一种常用的金属涂层技术,主要用于提供良好的耐腐蚀性和表面硬度。它的特点包括:
1. **优良的附着力**:热蒸镀形成的涂层与基材之间有良好的结合力,通常能够承受较大的机械应力和环境变化。
2. **均匀的涂层厚度**:热蒸镀过程可以实现较为均匀的涂层厚度,能够覆盖复杂形状的工件。
3. **良好的防腐蚀性**:涂层材料(如锌、铝等)能够有效防止基材氧化和腐蚀,延长产品的使用寿命。
4. **耐磨性和耐热性**:热蒸镀后形成的涂层通常具有较高的硬度和耐磨性,适合用于高磨损环境;部分涂层还具有良好的耐热性。
5. **成本效益**:相比于其他涂层技术(如电镀、喷涂等),热蒸镀在某些情况下能提供更低的生产成本和更高的生产效率。
6. **环境友好**:某些热蒸镀材料相对环保,且无污染物的排放。
7. **适用范围广**:可以用于金属材料,如钢铁、铝合金等,广泛应用于建筑、汽车、等行业。
综上所述,热蒸镀因其出色的性能和适用性而在工业领域得到了广泛应用。

束源炉(也称束流源或粒子束源)是一种产生高能粒子束的装置,广泛应用于粒子物理、材料科学、医学和工业等领域。其主要功能包括:
1. **粒子束生成**:束源炉能够生成高能电子、质子或离子束,供给实验或应用需要。
2. **加速粒子**:通过电场和磁场加速粒子到所需的能量,从而实现对粒子的控制和操纵。
3. **材料研究**:在材料科学中,束源炉可用于对材料进行辐照实验,研究其在高能粒子辐照下的结构和性能变化。
4. **医学应用**:在领域,束源炉可以用于(如质子疗法)、放射等。
5. **显微成像**:利用电子束进行扫描隧道显微镜(STM)或透射电子显微镜(TEM)等高分辨率成像。
6. **同位素生产**:产生短寿命或特定同位素,以用于医学成像或。
7. **基础科学研究**:为基本粒子物理实验提供高能碰撞,帮助研究粒子特性和宇宙基本法则。
总之,束源炉是一个重要的研究和应用工具,为科学研究和技术发展提供了基础支持。

电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光电、材料科学等领域。它的主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过电阻加热将材料蒸发,然后在基材上形成薄膜。
2. **高精度控制**:可以控制沉积速率和膜厚,使其适应不同需求的薄膜特性。
3. **气氛控制**:在真空或特定气氛下进行蒸镀,以提高薄膜的质量和性能。
4. **多材料蒸镀**:可同时或不同时间段内蒸发多种材料,以实现多层薄膜的沉积。
5. **适用于多种材料**:能够处理多种金属、合金及一些陶瓷材料。
6. **高均匀性**:通过优化设备设计,沉积的薄膜一般具有较高的均匀性和一致性。
7. **温度监控**:设备通常配备温度监控系统,以确保基材和蒸发材料的温度适宜。
电阻蒸镀机因其、以及能够制作量薄膜的优点,成为研究和工业应用中的重要工具。
束源炉(也称为束流炉或电子束炉)是利用高能电子束在真空环境中进行加热和熔化材料的设备。其适用范围广泛,主要包括以下几个方面:
1. **金属冶炼与铸造**:束源炉可以用于高熔属的熔化,如钨、铼等稀有金属。此外,它也适用于铸造合金,特别是在需要控制合金成分时。
2. **材料加工**:束源炉常用于金属的热处理、表面处理和焊接等工艺。由于电子束的能量集中,可以实现高温熔化和快速冷却,提高材料的力学性能。
3. **电子元件制造**:在某些电子器件的制造过程中,束源炉可以用来处理半导体材料,以提高其性能和可靠性。
4. **真空镀膜**:束源炉可以用来蒸发和沉积薄膜材料,广泛应用于光学涂层、电子器件及功能性薄膜的制备。
5. **核能和领域**:束源炉在核材料的处理和器材料的加工中也发挥着重要作用,特别是在需要特殊材料或高温条件下的应用。
总的来说,束源炉因其、高温、的特点,在多个制造领域都得到了广泛应用。
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