真空腔室Ф246×228mm,304优质不锈钢
分子泵进口Pfeiffer分子泵
前级泵机械泵,北仪优成
真空规全量程真空规,上海玉川
溅射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶挡板)
溅射电源500W直流电源1台,300W射频电源1台
流量计20sccm/50sccm进口WARWICK
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
旁路阀GDC-25b电磁挡板阀1套
限流阀DN63mm一套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
放气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台Ф100mm,高度:60~120mm可调,旋转:0-20r/min可调,可加热至300℃
膜厚监控仪进口Inficon SQM-160单水冷探头,精度0.1Å(选配)
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35法兰一个
备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
离子溅射仪是一种用于材料表面分析和处理的仪器,广泛应用于物理、材料科学、纳米技术以及半导体制造等领域。其基本原理是通过离子束轰击目标材料表面,导致该材料的原子或分子被溅射出来,从而可以进行成分分析、薄膜沉积或表面修饰等操作。
离子溅射仪的主要组成部分包括:
1. **离子源**:用于产生离子束,通常包括气体源和加速电场。
2. **真空腔**:为了减少气体分子对离子束的散射,实验一般在高真空环境下进行。
3. **靶材**:待处理或分析的样品,用于接受离子轰击。
4. **探测器**:用于捕捉和分析溅射出来的粒子,以获取样品的成分信息。
离子溅射的特点包括高灵敏度、高分辨率和适用于材料的处理,是现代材料科学研究和工业应用中的工具。
靶材通常是在物理、化学和材料科学等领域中使用的一种材料,主要具有以下功能:
1. **靶向作用**:在粒子物理实验中,靶材可用于吸收入射粒子并产生可观测的反应,如在粒子加速器中用作靶。
2. **材料沉积**:在薄膜沉积技术中,靶材用于将材料蒸发或溅射到基底上,形成薄膜。这在电子器件、光学涂层等应用中重要。
3. **反应介质**:在化学反应中,靶材可以作为反应物,产生相应的化学反应或物理变化。
4. **能量传输**:靶材能够接收入射粒子的能量并将其转化为其他形式的能量,或以其他方式传递能量。
5. **示踪和检测**:在放射性同位素研究中,靶材可以用作示踪剂,帮助检测和分析现象。
总之,靶材在科学研究和工业应用中扮演着重要的角色,其具体功能根据应用场景的不同而有所差异。

靶材是指在实验或工业生产中用于材料分析、研究或加工的材料。靶材的特点主要包括以下几个方面:
1. **成分纯度**:靶材通常需要具备高纯度,以确保实验结果的准确性和重复性。
2. **均匀性**:靶材应具备良好的均匀性,以避免在物理或化学反应过程中产生不均匀现象,导致测试结果的偏差。
3. **机械性能**:靶材的机械强度、硬度和韧性等性能要求较高,以适应不同的加工和使用条件。
4. **热稳定性**:靶材的热稳定性影响其在高温环境下的性能,尤其是在气相沉积等高温工艺中,需要良好的耐热性。
5. **反应活性**:靶材的表面性质和化学反应性对材料的沉积或反应过程有重要影响,通常需要设计出合适的表面处理以优化性能。
6. **可加工性**:靶材需易于加工成所需的形状和尺寸,方便在实验和生产中使用。
7. **成本**:靶材的经济性也是一个关键因素,需要在性能和价格之间找到平衡。
靶材的选择会根据具体应用的需求有所不同,例如在半导体制造、涂层技术和材料科学研究中,靶材的特性往往会影响到终产品的质量和性能。

样品台,通常用于实验室、工业生产和研究等领域,具有以下几个特点:
1. **稳定性**:样品台通常设计得稳定,以确保在进行实验或观察时,样品受到外部震动或干扰的影响。
2. **调整功能**:许多样品台具有高度可调节性,允许用户根据需要调整样品的位置和角度,以便于观察和测量。
3. **易清洁性**:样品台通常采用易于清洗的材料,能够防止样品的污染,同时在使用过程中保持卫生。
4. **多功能性**:某些样品台配备了不同的附件和配件,支持实验需求,例如光学显微镜、测量仪器等。
5. **适应性强**:样品台的设计往往可以根据不同类型的样品(如液体、固体、粉末等)进行调整,以适应不同的实验需求。
6. **材料选用**:样品台通常采用耐腐蚀、耐高温或其他特殊材料,以适应不同实验环境。
7. **标记系统**:许多样品台上会有标记或者刻度,使用户能够定位样品位置。
8. **光学性能**:在光学实验中,样品台可能会考虑透光性和反射性,以确保观测效果的清晰度。
这些特点使得样品台在不同领域的应用中显得尤为重要,能够提高实验的性和效率。

磁控溅射镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学、太阳能、LED等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过溅射技术,将靶材表面的原子或分子激发并沉积在基材表面,从而形成薄膜。可以沉积金属、绝缘体和半导体等多种材料。
2. **膜层均匀性调控**:通过调整溅射参数(如气体流量、功率、沉积时间等),可以控制薄膜的厚度和均匀性,满足不同应用的要求。
3. **材料性质优化**:可以通过改变靶材的种类、沉积环境等方式,调节薄膜的物理和化学性质,如电导率、光学透过率等。
4. **多层膜沉积**:可以实现多层膜的交替沉积,满足复杂器件的需求,比如光学滤光片、传感器等。
5. **真空环境**:在真空条件下进行沉积,可以减少膜层缺陷,提高膜层的质量及其性能。
6. **可控厚度及成分**:通过控制溅射时间和功率,可以实现对膜层厚度及化学成分的准确调控,适用于应用需求。
7. **适应性强**:可以使用多种靶材和基材,广泛应用于不同领域,包括电子器件、光电材料、装饰性涂层等。
磁控溅射镀膜机因其优越的沉积过程和膜层质量,在现代材料科学和工程中占有重要地位。
桌面型磁控溅射镀膜仪广泛应用于多个领域,主要包括:
1. **电子元件制造**:在半导体器件、传感器、光电器件的生产中,用于沉积薄膜。
2. **光学器件**:用于光学涂层的制备,如镜头、光学滤光片等,以优化光的传输和反射特性。
3. **太阳能电池**:在光伏材料的生产中,沉积导电和光吸收层。
4. **防腐涂层**:用于金属表面的保护性涂层,提升耐磨性和防腐蚀性。
5. **功能性薄膜**:例如,电池、电容器及其他储能器件中的功能薄膜。
6. **研究和开发**:高校和科研机构用于材料科学、物理、化学等领域的研究,探索新材料和新技术。
7. **生物医用材料**:用于制备生物相容性涂层,如器械表面的生物处理。
由于其高精度和可控性,桌面型磁控溅射镀膜仪在上述领域均有着重要的应用价值。
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