荆门桌面型磁控溅射镀膜仪
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产品描述

真空腔室Ф246×228mm,304优质不锈钢 分子泵进口Pfeiffer分子泵 前级泵机械泵,北仪优成 真空规全量程真空规,上海玉川 溅射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶挡板) 溅射电源500W直流电源1台,300W射频电源1台 流量计20sccm/50sccm进口WARWICK 控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套 冷水机LX-300 前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套 旁路阀GDC-25b电磁挡板阀1套 限流阀DN63mm一套 充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套 放气阀Φ6mm,电磁截止阀1套 基片台Ф100mm,高度:60~120mm可调,旋转:0-20r/min可调,可加热至300℃ 膜厚监控仪进口Inficon SQM-160单水冷探头,精度0.1Å(选配) 真空管路波纹管、真空管道等1套 设备机架机电一体化 预留接口CF35法兰一个 备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
小型磁控溅射镀膜机是一种用于材料表面处理和薄膜沉积的设备。它利用磁控溅射的原理,将靶材上的原子或分子溅射到基材表面,形成薄膜。该机器适合于科研机构、小型实验室和生产线中的小批量生产。
### 主要特点:
1. **紧凑设计**:小型设备占用空间小,适合不同实验室环境。
2. **率**:能够快速沉积薄膜,提高生产效率。
3. **多功能性**:支持多种靶材,可用于金属、氧化物、氮化物等不同材料的沉积。
4. **控制**:具备气体流量、压强、功率等参数的控制,便于优化沉积条件。
5. **良好的膜质量**:能沉积出量的薄膜,适用于光学、电子、硬膜等领域。
### 应用领域:
- 半导体工业
- 光学薄膜
- 太阳能电池
- 储能材料
- 防护涂层等。
### 注意事项:
- 操作前需熟悉设备手册,确保安全使用。
- 定期维护设备,保持良好的工作状态。
如果你有具体的功能要求或使用场景,可以提供更多信息,以便于给出更详细的建议。
PVD(物相沉积)镀膜机是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备,广泛应用于电子、光学、工具制造和装饰等领域。其主要特点包括:
1. **薄膜质量高**:PVD工艺能够在较低的温度下沉积量、高致密度的薄膜,具有良好的附着力和均匀性。
2. **材料多样性**:PVD技术可以镀金属、合金和陶瓷材料,能够满足不同应用需求。
3. **环保性**:PVD过程通常不涉及有害化学物质,相比于化学气相沉积(CVD)等工艺更为环保。
4. **沉积速率可调**:通过调整工艺参数,可以控制薄膜的沉积速率,从而满足不同应用的需求。
5. **设备占用空间小**:PVD镀膜机相对较小,适合在空间有限的环境中使用。
6. **自动化程度高**:现代PVD设备通常具有较高的自动化水平,可以实现连续生产,提高生产效率。
7. **良好的耐磨性和耐腐蚀性**:沉积的薄膜通常具有的耐磨性和耐腐蚀性,适用于工业应用。
8. **适应性强**:可以处理不同形状和尺寸的基材,从小型零件到大型工件均可适应。
这些特点使得PVD镀膜机在多个领域得以广泛应用,并逐渐成为现代材料表面处理的重要设备。
荆门桌面型磁控溅射镀膜仪
桌面型磁控溅射镀膜仪是一种广泛应用于材料科学、电子学、光学等领域的设备,其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:可在基材上沉积薄膜,形成不同厚度和成分的薄膜材料。
2. **材料多样性**:支持多种靶材(如金属、合金、氧化物等),能够制作出不同种类的薄膜。
3. **优良的膜质量**:采用磁控溅射技术,可以有效提高薄膜的均匀性和致密性,提高膜的性能。
4. **可调节参数**:可以调节溅射功率、气体流量、基片温度等参数,以满足不同工艺要求。
5. **大面积镀膜**:由于其设计,可以适用于大面积基片的镀膜需求,在科研和工业生产中具有较高的应用价值。
6. **过程控制**:配备监测系统,可以实时监测膜厚度、气氛等,有助于控制沉积过程。
7. **易于操作**:桌面型的设计使得设备更加紧凑,操作相对简单,适合实验室环境使用。
8. **真空技术**:工作过程中保持真空环境,减少污染,提高沉积质量。
这种设备在半导体器件制造、光学涂层、传感器、太阳能电池等多个领域具有重要应用价值。
荆门桌面型磁控溅射镀膜仪
磁控溅射镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学、太阳能、LED等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过溅射技术,将靶材表面的原子或分子激发并沉积在基材表面,从而形成薄膜。可以沉积金属、绝缘体和半导体等多种材料。
2. **膜层均匀性调控**:通过调整溅射参数(如气体流量、功率、沉积时间等),可以控制薄膜的厚度和均匀性,满足不同应用的要求。
3. **材料性质优化**:可以通过改变靶材的种类、沉积环境等方式,调节薄膜的物理和化学性质,如电导率、光学透过率等。
4. **多层膜沉积**:可以实现多层膜的交替沉积,满足复杂器件的需求,比如光学滤光片、传感器等。
5. **真空环境**:在真空条件下进行沉积,可以减少膜层缺陷,提高膜层的质量及其性能。
6. **可控厚度及成分**:通过控制溅射时间和功率,可以实现对膜层厚度及化学成分的准确调控,适用于应用需求。
7. **适应性强**:可以使用多种靶材和基材,广泛应用于不同领域,包括电子器件、光电材料、装饰性涂层等。
磁控溅射镀膜机因其优越的沉积过程和膜层质量,在现代材料科学和工程中占有重要地位。
荆门桌面型磁控溅射镀膜仪
桌面型磁控溅射镀膜仪是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于半导体、光电、光学及材料科学等领域。以下是桌面型磁控溅射镀膜仪的一些主要特点:
1. **紧凑设计**:桌面型设计占用空间小,适合实验室环境,有利于提高实验室的使用效率。
2. **高均匀性**:通过磁场增强溅射过程,提高薄膜的均匀性和致密性,能够在较大面积上达到一致的膜厚。
3. **可控性**:支持控制沉积参数,如气压、溅射功率和沉积时间,便于实现不同材料和膜厚的调节。
4. **多种靶材选择**:支持多种材料的靶材,能够实现金属、氧化物、氮化物等不同类型薄膜的沉积。
5. **低温沉积**:相较于其他镀膜技术,磁控溅射通常可在较低温度下进行,有助于保护基材和改善膜的性能。
6. **清洁环境**:通常配备有真空系统,能够在相对洁净的环境下进行沉积,减少污染。
7. **自动化程度高**:一些型号支持自动化控制和监测,便于实验操作和数据记录,提高了实验效率和重复性。
8. **易于维护**:桌面型设备结构相对简单,便于日常维护和保养,降低了运行成本。
这些特点使得桌面型磁控溅射镀膜仪在科研和工业应用中越来越受到欢迎。
磁控溅射镀膜机是一种常见的薄膜沉积设备,广泛应用于多个领域。其适用范围主要包括:
1. **光电器件**:用于制造太阳能电池、OLED显示屏、LED等光电元件的导电膜和荧光膜。
2. **半导体器件**:在集成电路生产中,磁控溅射可以用于沉积金属、氧化物和氮化物薄膜,这些薄膜用于互连、绝缘和掺杂等功能。
3. **光学涂层**:生产抗反射 coating、反射镜涂层和其他光学薄膜,广泛应用于镜头、光学仪器和显示器上。
4. **硬涂层**:用于制造硬度高、耐磨损的薄膜,在工具、模具等表面进行保护。
5. **磁性材料**:在数据存储和磁性传感器中,沉积磁性薄膜以实现特定的磁性能。
6. **装饰涂层**:在家居用品、电子产品外壳等表面进行装饰性镀膜。
7. **生物医学**:在生物传感器和器械表面形成或生物相容性薄膜。
由于其良好的膜质量和均匀性,磁控溅射镀膜机在材料科学、纳米科技等研究领域也有广泛应用。
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