真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304优质不锈钢
观察窗Φ100mm,含磁力挡板
屏蔽板不锈钢,便于拆卸清洁、更换
水冷蒸发电极8根组成4组
金属蒸发电源功率3kW
复合分子泵JTFB-650Z脂润滑分子泵,抽速650L/s
直联高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s
气动高真空插板阀DN150
前级阀/旁路阀DN40
放气阀φ10 电磁充气阀
数显复合真空计两低一高,含规管
波纹管、真空管道材质SUS304不锈钢
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于半导体、光电、 optics 等领域。它的基本工作原理是通过电阻加热将材料(通常是金属或合金)加热到蒸发温度,使其从固态转变为气态,然后冷却后在基材上形成薄膜。
以下是电阻蒸镀机的一些关键组成部分和特点:
1. **电阻加热源**:通过电阻丝或钨丝加热蒸发源,相关温度能够控制材料的蒸发速率。
2. **真空室**:在真空环境下进行蒸镀可以减少气体分子的干扰,从而提高薄膜的质量和纯度。
3. **蒸发源**:放置待蒸发材料的地方,常用的材料有铝、金、银等。
4. **基材夹持系统**:用于固定待涂覆的物体,确保薄膜均匀性。
5. **厚度监测器**:通常使用晶体监测器(如QCM)来实时监测薄膜的厚度,确保达到预定的沉积量。
6. **冷却系统**:在蒸镀过程中,冷却系统可以防止设备过热,保证设备和材料的稳定性。
电阻蒸镀机具有操作简便、控制准确和沉积均匀等优点,适合大面积和高均匀性薄膜的制备。由于其热沉积的特性,相比其他蒸镀方式(例如电子束蒸镀),更适合处理低熔属和合金。
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光电、材料科学等领域。它的主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过电阻加热将材料蒸发,然后在基材上形成薄膜。
2. **高精度控制**:可以控制沉积速率和膜厚,使其适应不同需求的薄膜特性。
3. **气氛控制**:在真空或特定气氛下进行蒸镀,以提高薄膜的质量和性能。
4. **多材料蒸镀**:可同时或不同时间段内蒸发多种材料,以实现多层薄膜的沉积。
5. **适用于多种材料**:能够处理多种金属、合金及一些陶瓷材料。
6. **高均匀性**:通过优化设备设计,沉积的薄膜一般具有较高的均匀性和一致性。
7. **温度监控**:设备通常配备温度监控系统,以确保基材和蒸发材料的温度适宜。
电阻蒸镀机因其、以及能够制作量薄膜的优点,成为研究和工业应用中的重要工具。

束源炉(也称束流源或粒子束源)是一种产生高能粒子束的装置,广泛应用于粒子物理、材料科学、医学和工业等领域。其主要功能包括:
1. **粒子束生成**:束源炉能够生成高能电子、质子或离子束,供给实验或应用需要。
2. **加速粒子**:通过电场和磁场加速粒子到所需的能量,从而实现对粒子的控制和操纵。
3. **材料研究**:在材料科学中,束源炉可用于对材料进行辐照实验,研究其在高能粒子辐照下的结构和性能变化。
4. **医学应用**:在领域,束源炉可以用于(如质子疗法)、放射等。
5. **显微成像**:利用电子束进行扫描隧道显微镜(STM)或透射电子显微镜(TEM)等高分辨率成像。
6. **同位素生产**:产生短寿命或特定同位素,以用于医学成像或。
7. **基础科学研究**:为基本粒子物理实验提供高能碰撞,帮助研究粒子特性和宇宙基本法则。
总之,束源炉是一个重要的研究和应用工具,为科学研究和技术发展提供了基础支持。

热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学、材料科学等领域。其主要特点包括:
1. **高纯度材料沉积**:通过热蒸发可以有效地沉积高纯度的薄膜,减少杂质的影响。
2. **良好的膜质量**:热蒸发镀膜技术能够形成均匀且致密的薄膜,具备较好的光学和电气性能。
3. **高沉积速率**:相较于其他镀膜技术,热蒸发具有较高的沉积速率,适合大规模生产。
4. **温度控制灵活**:设备通常配备精密的温度控制系统,可以根据不同材料的特性调整加热温度。
5. **适用广泛**:可以镀覆多种材料,如金属、合金、半导体及绝缘材料等,适用性强。
6. **工艺简单**:热蒸发镀膜工艺相对简单,易于操作和控制。
7. **真空环境**:通常在真空环境中进行,有效减少气体污染,提高膜层质量。
8. **设备投资较低**:相对于其他镀膜设备(如磁控溅射镀膜机),热蒸发镀膜机的设备成本相对较低。
9. **可控性强**:可以通过改变蒸发源的距离、功率和基片温度等来调节膜层的厚度和属性。
总之,热蒸发镀膜机是一种、灵活且经济的薄膜沉积设备,适合应用需求。

钙钛矿镀膜机是一种用于制备钙钛矿材料薄膜的设备,广泛应用于光伏、光电和其他相关领域。以下是钙钛矿镀膜机的一些主要特点:
1. **能**:钙钛矿镀膜机能够快速制备量的钙钛矿薄膜,提升生产效率。
2. **均匀性**:设备设计确保薄膜厚度均匀,能够满足高性能器件的要求。
3. **多种制备方法**:钙钛矿镀膜机通常支持多种薄膜制备技术,如溶液法、蒸发法和喷涂法等,提供灵活的工艺选择。
4. **温控系统**:设备配有的温控系统,以确保在镀膜过程中温度稳定,避免材料性质受到影响。
5. **气氛控制**:部分钙钛矿镀膜机可以在惰性气体或特定气氛下工作,减少氧化和其他不利反应。
6. **自动化程度高**:许多钙钛矿镀膜机具有高度自动化功能,减少人工干预,提高操作安全性和性。
7. **易于集成**:设备通常设计便于与其他测试和后处理设备集成,形成完整的生产线。
8. **可扩展性**:根据生产需求,可以灵活扩展规模,以满足不同量产要求。
这些特点使钙钛矿镀膜机在现代材料研究和工业生产中成为重要的设备之一。
有机蒸发镀膜机是一种用于高真空镀膜的设备,主要用于将有机材料(如聚合物、染料等)蒸发沉积在基材表面。其适用范围包括:
1. **光电器件**:包括OLED(有机发光二极管)、OPV(有机光伏)等的制造。
2. **显示器**:用于液晶显示器(LCD)和有机发光显示器(OLED)的制造。
3. **太阳能电池**:在有机太阳能电池的生产中用于沉积光吸收层和电极材料。
4. **传感器**:在气体传感器和生物传感器中应用。
5. **封装材料**:用于有机或柔性电子器件的封装,提供保护层。
6. **光学涂层**:用于制作防反射涂层、镜头涂层等光学器件的表面处理。
7. **防护涂层**:在某些应用中用于提高材料的耐磨性和抗腐蚀性。
有机蒸发镀膜机的灵活性使其能够满足不同材料和工艺的需求,在多个领域中都有广泛的应用。
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