真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与有机蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
有机蒸发镀膜机是一种用于在基材上沉积有机薄膜材料的设备。这种设备广泛应用于电子、光电、光学、柔性显示器等领域。其工作原理通常包括以下几个步骤:
1. **材料蒸发**:将有机材料加热至其蒸发温度,使其从固态或液态转变为气态。
2. **气体扩散**:蒸发产生的有机蒸气通过真空腔扩散到基材表面。
3. **薄膜沉积**:有机蒸气在基材表面冷凝并沉积形成薄膜。该过程中的温度、压力、基材的运动等都会影响沉积的薄膜质量和厚度。
4. **控制系统**:现代有机蒸发镀膜机通常配备的控制系统,可以控制温度、真空度、沉积速率等参数,以确保薄膜的均匀性和一致性。
有机蒸发镀膜的优势包括能够制备的有机薄膜,适用于形状和材质的基材,同时也适合于大面积涂覆。但是,由于有机材料的特点,其在处理和存储方面需要特别注意,以防止氧化和降解。
束源炉(或称束流反应堆)是一种利用粒子束产生高能粒子的设备,主要用于研究和应用于核物理、材料科学、医学等领域。其主要功能包括:
1. **粒子加速**:束源炉能够加速粒子到高能状态,为后续的实验提供足够的能量。
2. **粒子束应用**:通过产生高能粒子束,束源炉可以用于材料的改性、诊断以及产生放射性同位素。
3. **核反应研究**:支持核物理研究,例如基本粒子的相互作用、核结构和反应机制等。
4. **医学应用**:在放射和核医学中用于产生适用于的放射性同位素。
5. **探测**:用于开发和测试探测器及相关技术。
总结来说,束源炉是在科学研究和工业应用中重要的工具,具有多种功能。

电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学和材料科学等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:电阻蒸镀机能够将材料(如金属、合金、氧化物等)以蒸发形式沉积在基材表面,形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**:设备通常配备的温度控制和蒸发速率监测系统,可以控制薄膜的厚度和均匀性。
3. **多种材料兼容**:电阻蒸镀机可以用于多种类型的材料沉积,包括金属(如铝、金、银)、合金以及一些特定的化合物。
4. **真空环境**:通过在真空环境中进行沉积,可以减少气体分子对薄膜沉积的影响,从而提高薄膜的品质和性能。
5. **可调参数**:用户可以根据实际需求调整沉积温度、速率、时间等参数,以实现不同的应用效果。
6. **应用广泛**:电阻蒸镀机常用于制造光学元件、半导体器件、传感器、太阳能电池等多种产品。
7. **自动化程度高**:现代电阻蒸镀机通常具备计算机控制系统,可以实现自动化操作,提高生产效率。
总之,电阻蒸镀机是一种重要的薄膜制备工具,其优越的性能使其在科学研究和工业生产中都得到了广泛应用。

钙钛矿镀膜机是一种用于制备钙钛矿材料的设备,广泛应用于光电材料的研究和产业化。以下是钙钛矿镀膜机的一些主要特点:
1. **高精度控制**:钙钛矿镀膜机通常配备高精度的温度、气体流量和压力控制系统,能够实现对膜厚度和质量的控制。
2. **多种成膜技术**:设备可能支持多种成膜技术,如溶液法、真空蒸发、磁控溅射、化学气相沉积(CVD)等,以满足不同材料和应用的需求。
3. **均匀性好**:钙钛矿镀膜机通过优化基板旋转、气体流动等参数,能够实现高均匀性的薄膜沉积,提高材料性能。
4. **适应性强**:可适用于不同类型的基材,包括玻璃、硅片、塑料等,提供更大的设计灵活性。
5. **快速换膜**:许多钙钛矿镀膜机设计有快速换膜功能,方便进行不同材料的快速切换,提高生产效率。
6. **环境友好**:新型钙钛矿镀膜机在材料使用和废气处理方面越来越注重环保,减少对环境的影响。
7. **便于规模化生产**:具备一定自动化程度的设备可以支持大规模生产,满足工业化需求。
8. **实时监控与数据记录**:设备通常配备实时监控系统,可以记录沉积过程中的各项数据,便于后续分析和优化。
这些特点使得钙钛矿镀膜机在光伏、发光二极管(LED)、激光器等领域具有广泛的应用前景。

小型热蒸发镀膜机是一种常见的实验室设备,主要用于材料表面的薄膜沉积,其特点包括:
1. **小巧便携**:设计紧凑,适合实验室、研究机构及小规模生产等场所使用,便于搬运和安装。
2. **操作简便**:通常配备直观的操作界面和控制系统,便于用户操作和调节参数。
3. **蒸发效率高**:利用热蒸发原理,能够在较短时间内实现率的镀膜过程。
4. **适用材料广泛**:可以用于多种金属及某些非金属材料的蒸发镀膜,适应性强。
5. **膜层质量好**:能够沉积出均匀、致密的薄膜,满足高要求的光学、电气性能。
6. **真空环境**:配置高真空系统,可以有效防止污染,提高膜层纯度。
7. **温度控制**:具备的温度控制功能,能够调节蒸发源的温度,以优化膜层性能。
8. **成本相对较低**:相比于大型镀膜设备,投资成本较低,适合预算有限的单位。
9. **多样化的附加功能**:部分设备还可以选配如厚度监测、靶材更换等功能,以提高应用的灵活性。
10. **节能环保**:现代设备在设计上往往考虑能耗,运行过程中的能量利用效率较高。
这些特点使得小型热蒸发镀膜机在科学研究、新材料开发和小规模生产中拥有广泛的应用前景。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种广泛应用于材料科学、电子、光电和薄膜技术等领域的设备。其主要适用范围包括:
1. **光学镀膜**:用于制作抗反射涂层、增透膜、反射镜等光学元件。
2. **电子器件**:可用于制备半导体器件中的金属层、绝缘层和其他功能膜,比如太阳能电池、发光二极管(LED)等。
3. **硬涂层**:在工具、模具等表面镀膜,以提高其耐磨性、抗腐蚀性和整体性能。
4. **传感器**:在气体传感器、湿度传感器等的开发中,利用镀膜技术提高传感器的灵敏度和选择性。
5. **薄膜材料研究**:用于基础研究,探索材料的薄膜生长行为及其物理性质。
6. **实验室应用**:适合小批量生产和实验室研究,可以在实验室环境中进行多种不同材料的蒸发镀膜。
7. **装饰镀膜**:用于生产装饰性薄膜,如金属光泽涂层等。
桌面型热蒸发镀膜仪以其操作简便、成本相对较低,适合科研、教学和小规模生产等多种场合。
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