真空腔室Ф246×228mm，304优质不锈钢
分子泵进口Pfeiffer分子泵
前级泵机械泵，北仪优成
真空规全量程真空规，上海玉川
溅射靶Ф2英寸永磁靶2支（含靶挡板）
溅射电源500W直流电源1台，300W射频电源1台
流量计20sccm/50sccm进口WARWICK
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
旁路阀GDC-25b电磁挡板阀1套
限流阀DN63mm一套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
放气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台Ф100mm，高度：60～120mm可调，旋转：0-20r/min可调，可加热至300℃
膜厚监控仪进口Inficon SQM-160单水冷探头，精度0.1Å（选配）
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35法兰一个
备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
溅射靶是一种用于材料科学和薄膜沉积的设备。其工作原理是利用高能粒子轰击靶材，使得靶材表面原子或分子飞出并沉积到基底上，从而形成薄膜。这种技术在半导体、光电器件和其他电子材料的制造中得到了广泛应用。
溅射靶的种类有很多，包括直流溅射、射频溅射和脉冲磁控溅射等，不同类型的溅射靶适用于不同的材料和应用。整体来说，溅射技术具有沉积速率高、膜层均匀性好、适用材料广泛等优点，但也需要控制参数如气体流量、压力和功率等，以获得满意的薄膜质量。
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靶材通常是在物理、化学和材料科学等领域中使用的一种材料，主要具有以下功能：
1. **靶向作用**：在粒子物理实验中，靶材可用于吸收入射粒子并产生可观测的反应，如在粒子加速器中用作靶。
2. **材料沉积**：在薄膜沉积技术中，靶材用于将材料蒸发或溅射到基底上，形成薄膜。这在电子器件、光学涂层等应用中重要。
3. **反应介质**：在化学反应中，靶材可以作为反应物，产生相应的化学反应或物理变化。
4. **能量传输**：靶材能够接收入射粒子的能量并将其转化为其他形式的能量，或以其他方式传递能量。
5. **示踪和检测**：在放射性同位素研究中，靶材可以用作示踪剂，帮助检测和分析现象。
总之，靶材在科学研究和工业应用中扮演着重要的角色，其具体功能根据应用场景的不同而有所差异。
离子溅射仪是一种用于材料表面分析和处理的设备，主要功能包括：
1. **材料沉积**：可以用于在基材表面上沉积薄膜，常见于半导体、光电子器件和表面涂层的制造。
2. **表面分析**：通过溅射过程，可以分析材料的成分和结构，常用于质谱分析和表面分析技术，如时间飞行质谱（TOF-MS）。
3. **清洁和去除涂层**：可以去除材料表面的污染物或旧涂层，为后续处理做好准备。
4. **再结晶和表面改性**：可以通过离子轰击改变材料的表面状态，如增加薄膜的粘附力、改善光学性能等。
5. **刻蚀**：在微电子工艺中，用于刻蚀特定区域，形成所需的图案和结构。
6. **离子 implantation**：将离子注入材料中，以改变其电学、光学或机械性质。
离子溅射仪在材料科学、微电子、纳米技术等领域有着广泛的应用。
磁控溅射是一种广泛应用于薄膜沉积的技术，主要用于在基材上沉积金属、绝缘体或半导体材料。其功能和优势包括：
1. **量薄膜**：磁控溅射能够沉积出均匀、致密且质量优良的薄膜，适用于材料，包括金属、合金和氧化物等。
2. **可控性强**：通过调节溅射参数（如气压、电源功率、磁场强度等），可以控制薄膜的厚度和性质。
3. **低温沉积**：与其他沉积技术相比，磁控溅射通常可以在较低温度下进行，这对于热敏感材料尤为重要。
4. **多种材料的沉积**：可以在不同类型的基材上沉积材料，适用范围很广。
5. **高沉积速率**：由于利用了磁场增强离子化过程，磁控溅射的沉积速率通常较高，能够提高生产效率。
6. **良好的附着力**：沉积的薄膜与基材之间具有良好的附着力，适合用于多种应用。
7. **均匀性和厚度控制**：可以实现大面积的均匀沉积，适用于需要大尺寸薄膜的应用。
磁控溅射广泛应用于光电器件、太阳能电池、薄膜电路、保护涂层等领域。
PVD（物相沉积）镀膜机是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备，广泛应用于电子、光学、工具制造和装饰等领域。其主要特点包括：
1. **薄膜质量高**：PVD工艺能够在较低的温度下沉积量、高致密度的薄膜，具有良好的附着力和均匀性。
2. **材料多样性**：PVD技术可以镀金属、合金和陶瓷材料，能够满足不同应用需求。
3. **环保性**：PVD过程通常不涉及有害化学物质，相比于化学气相沉积（CVD）等工艺更为环保。
4. **沉积速率可调**：通过调整工艺参数，可以控制薄膜的沉积速率，从而满足不同应用的需求。
5. **设备占用空间小**：PVD镀膜机相对较小，适合在空间有限的环境中使用。
6. **自动化程度高**：现代PVD设备通常具有较高的自动化水平，可以实现连续生产，提高生产效率。
7. **良好的耐磨性和耐腐蚀性**：沉积的薄膜通常具有的耐磨性和耐腐蚀性，适用于工业应用。
8. **适应性强**：可以处理不同形状和尺寸的基材，从小型零件到大型工件均可适应。
这些特点使得PVD镀膜机在多个领域得以广泛应用，并逐渐成为现代材料表面处理的重要设备。
样品台是一种用于放置和支撑样品的实验设备，广泛应用于多个领域。以下是样品台的主要适用范围：
1. **生物医学研究**：在显微镜下观察细胞、组织切片和其他生物样品。
2. **材料科学**：用于测试金属、聚合物、陶瓷等材料的物理和化学性质。
3. **化学分析**：在化学实验中放置反应瓶、试剂和其他化学物质。
4. **电子显微镜**：在电子显微镜中支撑和固定样品，以便进行高分辨率观察。
5. **光学显微镜**：在光学显微镜中观察细小结构、颗粒和晶体等。
6. **工业检测**：用于质量控制和检测产品样品，如电子元件、机械零件等。
不同类型的样品台（如移动样品台、平面样品台等）可以根据具体需求进行选择，以满足不同实验或检测的需求。
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