真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304优质不锈钢
观察窗Φ100mm,含磁力挡板
屏蔽板不锈钢,便于拆卸清洁、更换
水冷蒸发电极8根组成4组
金属蒸发电源功率3kW
复合分子泵JTFB-650Z脂润滑分子泵,抽速650L/s
直联高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s
气动高真空插板阀DN150
前级阀/旁路阀DN40
放气阀φ10 电磁充气阀
数显复合真空计两低一高,含规管
波纹管、真空管道材质SUS304不锈钢
“蒸发舟”是一种用于物相沉积(PVD)技术中材料蒸发的设备,通常用于薄膜制造。在这种设备中,材料被加热至其蒸发点,形成气体,然后沉积在基材表面。蒸发颗粒是指在这一过程中形成的微小颗粒或蒸汽,它们会在冷却的基材上凝聚,形成薄膜或涂层。
蒸发舟的材质通常能够承受高温,并具有良好的热导性。常见的蒸发舟材料包括钨、铂或其他合金。蒸发过程中,控制温度和压力重要,以确保得到均匀和量的沉积膜。
如果你对蒸发舟的具体工作原理或应用有进一步的兴趣,欢迎提出!
热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学、材料科学等领域。其主要特点包括:
1. **高纯度材料沉积**:通过热蒸发可以有效地沉积高纯度的薄膜,减少杂质的影响。
2. **良好的膜质量**:热蒸发镀膜技术能够形成均匀且致密的薄膜,具备较好的光学和电气性能。
3. **高沉积速率**:相较于其他镀膜技术,热蒸发具有较高的沉积速率,适合大规模生产。
4. **温度控制灵活**:设备通常配备精密的温度控制系统,可以根据不同材料的特性调整加热温度。
5. **适用广泛**:可以镀覆多种材料,如金属、合金、半导体及绝缘材料等,适用性强。
6. **工艺简单**:热蒸发镀膜工艺相对简单,易于操作和控制。
7. **真空环境**:通常在真空环境中进行,有效减少气体污染,提高膜层质量。
8. **设备投资较低**:相对于其他镀膜设备(如磁控溅射镀膜机),热蒸发镀膜机的设备成本相对较低。
9. **可控性强**:可以通过改变蒸发源的距离、功率和基片温度等来调节膜层的厚度和属性。
总之,热蒸发镀膜机是一种、灵活且经济的薄膜沉积设备,适合应用需求。

蒸发舟是用于蒸发物质的一种设备,广泛应用于薄膜制备、材料合成和真空蒸发等领域。在蒸发过程中,蒸发舟在高温下加热,使得固体颗粒转变为气态,从而形成薄膜或其他材料。
蒸发舟蒸发颗粒的特点主要包括以下几个方面:
1. **粒度均匀性**:蒸发舟通常能够提供比较均匀的加热,从而使得蒸发出来的颗粒在粒度上保持一致,有助于提高材料的性能。
2. **高纯度**:在真空条件下进行蒸发,能够有效减少杂质的引入,从而提高所得到的薄膜或颗粒的纯度。
3. **可控性强**:通过调整温度、压力和蒸发时间,可以控制颗粒的蒸发速率和终的结构特性。
4. **形成薄膜的能力**:蒸发过程中,颗粒在冷却后会凝结形成薄膜,具有良好的附着性和均匀性。
5. **适用范围广**:可适用于多种材料,例如金属、氧化物、氮化物等,应用于电子器件、光学涂层等领域。
6. **重现性好**:蒸发过程中条件可重复,且易于实现规模化生产,能够满足工业应用的需求。
综上所述,蒸发舟蒸发颗粒具备均匀性、高纯度、可控性强及适用范围广等优点,使其在材料科学和工程领域中具有重要的应用价值。

热蒸发手套箱一体机是一种用于材料制备和微纳米技术研究的设备,主要功能包括:
1. **真空环境控制**:手套箱内可维持低压或真空状态,防止材料氧化或水分污染。
2. **热蒸发源**:通过加热材料,使其蒸发并在基片上沉积,以形成薄膜或纳米结构。
3. **气氛控制**:可以根据需要调节手套箱内的气氛,比如惰性气体(氮气、氩气)环境,以保护敏感材料。
4. **样品处理**:提供多种方式处理样品,包括加热、冷却、刻蚀等。
5. **厚度控制**:配备的监测系统,可实时监测并控制薄膜的厚度。
6. **操作安全性**:手套箱设计确保操作人员在处理有害或敏感材料时的安全。
7. **自动化系统**:部分型号具备自动化操作功能,提高实验效率并减少人为误差。
8. **配备监测设备**:可以与仪器(如电子显微镜、X射线衍射仪等)联用,进行材料性质分析。
总之,热蒸发手套箱一体机是多功能且的材料制备设备,广泛应用于半导体、光电材料、薄膜技术等领域。

钙钛矿镀膜机是一种用于制造钙钛矿材料薄膜的设备,广泛应用于光伏、光电子和其他相关领域。其主要功能包括:
1. **薄膜制备**:该设备能够在不同基底上沉积钙钛矿材料,形成均匀的薄膜,以便用于太阳能电池、发光二极管等器件。
2. **沉积技术支持**:通常支持多种沉积技术,如溶液法、蒸发法、喷涂法、化学气相沉积(CVD)等,用户可以根据具体需求选择合适的沉积方式。
3. **过程控制**:高精度的控制系统能够调节沉积过程中温度、压力、流量等参数,以确保薄膜质量和性能。
4. **广泛适应性**:能够处理不同类型和尺寸的基材,包括玻璃、塑料、硅片等,适应性强。
5. **后处理功能**:有些钙钛矿镀膜机还配备了后处理功能,例如退火或光照处理,以优化薄膜结构和提高电性。
6. **自动化与数据记录**:现代镀膜机通常具备自动化操作和实时数据记录功能,以提高生产效率和可靠性。
7. **环境控制**:部分设备可在特定的气氛条件下(如惰性气体或真空环境)进行操作,减少氧气和水分对钙钛矿材料的影响,提升薄膜的稳定性。
通过这些功能,钙钛矿镀膜机为研究和产业化提供了重要的技术支持,推动了钙钛矿材料的发展。
束源炉(也称为束流炉或电子束炉)是利用高能电子束在真空环境中进行加热和熔化材料的设备。其适用范围广泛,主要包括以下几个方面:
1. **金属冶炼与铸造**:束源炉可以用于高熔属的熔化,如钨、铼等稀有金属。此外,它也适用于铸造合金,特别是在需要控制合金成分时。
2. **材料加工**:束源炉常用于金属的热处理、表面处理和焊接等工艺。由于电子束的能量集中,可以实现高温熔化和快速冷却,提高材料的力学性能。
3. **电子元件制造**:在某些电子器件的制造过程中,束源炉可以用来处理半导体材料,以提高其性能和可靠性。
4. **真空镀膜**:束源炉可以用来蒸发和沉积薄膜材料,广泛应用于光学涂层、电子器件及功能性薄膜的制备。
5. **核能和领域**:束源炉在核材料的处理和器材料的加工中也发挥着重要作用,特别是在需要特殊材料或高温条件下的应用。
总的来说,束源炉因其、高温、的特点,在多个制造领域都得到了广泛应用。
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