真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与有机蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
蒸发舟是一种用于物相沉积(PVD)技术的设备,广泛应用于薄膜材料的制备。在这种过程中,固体材料(如金属或化合物)被加热到高温,使其蒸发,并在真空中沉积到基材表面,从而形成薄膜。
当材料在蒸发舟中加热到其蒸发温度时,会产生颗粒或原子,这些颗粒会随蒸气流动,终在冷却的基材上凝结,形成所需的薄膜。蒸发舟的主要优点是可以在相对低的温度下进行沉积,同时能够获得较高的沉积速率和良好的膜质量。
在蒸发过程中产生的颗粒可以是单原子层、分子或小颗粒,具体取决于蒸发的材料和条件。这些颗粒在沉积过程中会根据其动能和温度条件,形成不同的厚度和结构。
需要注意的是,蒸发的效率和膜的性质与蒸发舟的材料、温度、压力、基材的选择等多种因素密切相关。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种常用的薄膜沉积设备,具有以下几个显著特点:
1. **紧凑设计**:桌面型热蒸发镀膜仪通常体积较小,适合在实验室或小型生产环境中使用,便于放置和操作。
2. **蒸发**:利用热源加热蒸发材料,使其蒸发并沉积在基底上,能够实现的薄膜沉积。
3. **材料多样性**:可以使用多种类型的蒸发材料,如金属、氧化物等,适应不同的应用需求。
4. **真空系统**:一般配备有真空泵,能够在相对较低的压力下工作,提高膜层的纯度和均匀性。
5. **易于控制**:搭载有控制系统,能调节蒸发速率和沉积厚度,方便用户根据实验要求进行参数设置。
6. **适应性强**:可用于不同尺寸和形状的基底,如平片、胶卷等,满足不同实验或生产需求。
7. **品质监测**:一些型号可能配备有膜厚监测系统,实时监控沉积过程,确保膜厚的一致性。
8. **维护简单**:相对而言,桌面型热蒸发镀膜仪的维护和操作相对简单,适合研究人员和技术人员使用。
总之,桌面型热蒸发镀膜仪以其灵活性、便捷性和性,在材料科学、光电器件制造及其他相关领域得到了广泛应用。

小型热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于光学、电子、材料科学等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:能够在基材表面沉积金属、氧化物、氮化物等材料,以形成薄膜。
2. **控制膜厚**:通过调节蒸发时间和速率,可以控制薄膜的厚度,满足不同应用的需要。
3. **高真空环境**:通常配备真空系统,能够在高真空条件下进行蒸发,有效减少气体分子对薄膜的影响,提高膜层质量。
4. **多种材料兼容**:支持多种蒸发材料的使用,包括铝、银、金、硅等,适应不同的应用需求。
5. **均匀沉积**:通过合理设计蒸发源的布局,实现薄膜在基材上的均匀沉积。
6. **小型化设计**:体积小、重量轻,适合实验室、小规模生产等场合,便于搬运和操作。
7. **自动化控制**:一些设备配备了计算机控制系统,可以实现自动化操作,提率和重复性。
8. **多种基材兼容**:能够处理不同材料和形状的基材,如玻璃、塑料、陶瓷等。
总之,小型热蒸发镀膜机是一种 versatile 的设备,适用于科学研究和工业应用中的薄膜制备。

热蒸发镀膜机是一种常用于薄膜沉积的设备,其主要特点包括:
1. **高纯度镀膜**:由于采用高温加热源,能有效蒸发材料,沉积出的薄膜通常具有较高的纯度。
2. **良好的均匀性**:通过合理设计源与基片之间的距离,可以实现较均匀的膜层厚度。
3. **适用范围广**:可以用于多种材料的沉积,包括金属、半导体及一些绝缘材料。
4. **沉积速率可调**:通过调节加热温度和蒸发源的功率,可以实现不同沉积速率,满足不同应用需求。
5. **操作简便**:热蒸发镀膜机的操作相对简单,适合实验室及工业生产使用。
6. **适配性强**:可以与其他设备如真空系统、光学测厚仪等配合,提升沉积效果和膜层质量。
7. **成本效益高**:相较于其他镀膜技术,热蒸发镀膜机的设备投资和运行成本通常较低。
8. **膜层控制能力强**:可以通过调整蒸发时间和材料供应来实现膜厚的控制。
总的来说,热蒸发镀膜机以其优良的膜层质量和较为简单的操作,在科研和工业应用中广泛使用。

热蒸发镀膜机是一种用于物相沉积(PVD)技术的设备,主要功能包括:
1. **膜层制备**:通过加热蒸发材料,使其转变为气态,并在基材表面沉积形成薄膜。可以用于制备金属、绝缘材料或半导体薄膜。
2. **膜层厚度控制**:通过控制蒸发率和沉积时间,可以调节膜层的厚度。
3. **材料种类选择**:可以使用多种材料进行蒸发,如金、银、铝、氧化物等,以实现不同的光学或电气性能。
4. **真空环境控制**:在真空环境中进行镀膜,降低空气中的杂质对膜层质量的影响,提高膜层的致密性和均匀性。
5. **基材适应性**:可用于多种基材的镀膜,包括玻璃、塑料、金属等。
6. **功能性薄膜的制备**:可以制备不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、导电膜、光电膜等,广泛应用于光电子器件、显示器、传感器等领域。
7. **多层膜制备**:可实现多层膜的叠加,制造复杂结构以满足特定的光学或电气特性。
这些功能使得热蒸发镀膜机在材料科学、电子、光学等领域有着广泛的应用。
小型热蒸发镀膜机广泛应用于多个领域,主要适用范围包括:
1. **光学元件**:用于制作光学薄膜,如反射镜、抗反射膜、分光膜等,广泛应用于镜头、光学仪器等。
2. **电子器件**:在半导体器件、电路板等制造中,镀膜可以用于形成导电层、绝缘层及其他功能性薄膜。
3. **太阳能电池**:用于太阳能电池的镀膜,提高光电转换效率。
4. **显示器件**:应用于LCD、OLED等显示屏的薄膜制作,提高显示效果和耐用性。
5. **装饰性涂层**:用于制造装饰性涂层,如金属镀层、彩色薄膜等,增强产品的美观性。
6. **传感器**:用于传感器表面的功能性涂层,提高灵敏度和选择性。
7. **研究和实验室**:在材料科学和物理等研究中,用于制备薄膜材料,探索其性质和应用。
由于小型热蒸发镀膜机具有操作简单、灵活性高等优点,适合于小批量生产和科研试验,因此在以上领域得到了广泛使用。
http://www.lightbule-nano.com