真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与有机蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
小型热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于光学、电子、太阳能等领域。它通过将材料加热至蒸发温度,使其转变为蒸汽,随后在基材表面冷凝形成薄膜。以下是小型热蒸发镀膜机的一些主要特点和优点:
1. **设备结构紧凑**:小型设计适合实验室或小规模生产,节省空间。
2. **高真空环境**:通常配备高真空系统,确保沉积环境的纯净度,提高膜层质量。
3. **多种材料兼容**:可用于多种蒸发材料,如金属、氧化物及聚合物等。
4. **温度控制**:的温度控制系统可调节蒸发材料的加热速率,从而影响薄膜的厚度和属性。
5. **简单易操作**:大多数小型热蒸发镀膜机都设计有用户友好的控制界面,方便操作和监控。
6. **膜层均匀性好**:通过合理的蒸发源布局和旋转机构,可以获得均匀的膜层。
在选购小型热蒸发镀膜机时,可以考虑、技术参数、售后服务及配件支持等因素,以确保能够满足特定的实验或生产需求。
钙钛矿镀膜机是一种专门用于制造钙钛矿材料的设备,通常涉及薄膜沉积技术。这种机器的主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过化学气相沉积(CVD)、物相沉积(PVD)或溶胶-凝胶法等技术,将钙钛矿材料沉积在基材上,形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**:能够控制沉积过程中的温度、压力和气体流量,以确保薄膜的厚度和均匀性符合要求。
3. **材料多样性**:支持多种钙钛矿材料的沉积,包括不同的组成和结构,以适应不同应用需求。
4. **表面处理**:可以对镀膜后处理表面进行刻蚀或清洗,以改善薄膜的性能和附着力。
5. **实时监测**:配备传感器和监测系统,可以实时监测沉积状态和薄膜质量,确保生产过程的稳定性和可重复性。
6. **自动化操作**:许多钙钛矿镀膜机具有自动化功能,能够减少人工干预,提高生产效率和减少人为错误。
钙钛矿材料被广泛应用于太阳能电池、光电器件、催化剂等领域,因此,钙钛矿镀膜机在新材料研发和产业化方面具有重要意义。

手套箱一体机是一种集成多种功能于一体的设备,主要用于提供无尘、无污染的环境,以便在严格控制条件下进行实验或操作。其特点包括:
1. **封闭环境**:手套箱一体机通常是密封的,可以有效防止外界空气和污染物进入,适合处理敏感材料或化学物质。
2. **手套操作**:设备配备有手套,操作人员可以在箱内安全地处理物品,无需直接接触。
3. **气氛控制**:许多手套箱一体机可以调节内部气氛,例如控制氧气、湿度、温度等,以适应不同实验的需求。
4. **集成化设计**:设备通常将多种功能集成在一起,可能包括净化系统、气体监测、温控系统等,提供一体化的解决方案。
5. **高安全性**:手套箱一体机设计上考虑了操作安全,通常具备泄压、报警等安全机制,以应对潜在的危险。
6. **灵活性**:可以根据实验需求进行定制,适应不同类型的实验和操作。
7. **易于清洁维护**:设备表面一般采用光滑、耐腐蚀材料,方便清洁和维护。
8. **可视化系统**:一些手套箱一体机配备有观察窗口或摄像系统,使操作人员可以监控内部情况,确保实验顺利进行。
这些特点使手套箱一体机在材料科学、化学研究、生物实验等领域广泛应用。

有机蒸发镀膜机是一种用于薄膜材料的沉积设备,主要应用于电子、光电、光学等领域。其功能主要包括:
1. **薄膜沉积**:通过加热有机材料,使其蒸发并沉积在基板表面,形成均匀的薄膜。
2. **控制膜厚**:可以控制沉积的膜厚度,以满足应用需求。
3. **大面积涂层**:适用于大尺寸基板的涂层工艺,满足工业生产需求。
4. **高真空环境**:在高真空条件下进行镀膜,减少杂质,提升膜层质量。
5. **材料适应性**:可用于多种有机材料的镀膜,如聚合物、染料、液晶等。
6. **多层膜结构**:能够实现多层膜的沉积,适用于复杂结构的器件。
7. **智能控制**:现代设备通常配备的控制系统,可以自动调节参数,提升生产效率和膜的均匀性。
通过以上功能,有机蒸发镀膜机在太阳能电池、显示器、传感器等领域发挥着重要作用。

热蒸发镀膜机是一种用于物相沉积(PVD)技术的设备,主要功能包括:
1. **膜层制备**:通过加热蒸发材料,使其转变为气态,并在基材表面沉积形成薄膜。可以用于制备金属、绝缘材料或半导体薄膜。
2. **膜层厚度控制**:通过控制蒸发率和沉积时间,可以调节膜层的厚度。
3. **材料种类选择**:可以使用多种材料进行蒸发,如金、银、铝、氧化物等,以实现不同的光学或电气性能。
4. **真空环境控制**:在真空环境中进行镀膜,降低空气中的杂质对膜层质量的影响,提高膜层的致密性和均匀性。
5. **基材适应性**:可用于多种基材的镀膜,包括玻璃、塑料、金属等。
6. **功能性薄膜的制备**:可以制备不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、导电膜、光电膜等,广泛应用于光电子器件、显示器、传感器等领域。
7. **多层膜制备**:可实现多层膜的叠加,制造复杂结构以满足特定的光学或电气特性。
这些功能使得热蒸发镀膜机在材料科学、电子、光学等领域有着广泛的应用。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种广泛应用于材料科学、电子、光电和薄膜技术等领域的设备。其主要适用范围包括:
1. **光学镀膜**:用于制作抗反射涂层、增透膜、反射镜等光学元件。
2. **电子器件**:可用于制备半导体器件中的金属层、绝缘层和其他功能膜,比如太阳能电池、发光二极管(LED)等。
3. **硬涂层**:在工具、模具等表面镀膜,以提高其耐磨性、抗腐蚀性和整体性能。
4. **传感器**:在气体传感器、湿度传感器等的开发中,利用镀膜技术提高传感器的灵敏度和选择性。
5. **薄膜材料研究**:用于基础研究,探索材料的薄膜生长行为及其物理性质。
6. **实验室应用**:适合小批量生产和实验室研究,可以在实验室环境中进行多种不同材料的蒸发镀膜。
7. **装饰镀膜**:用于生产装饰性薄膜,如金属光泽涂层等。
桌面型热蒸发镀膜仪以其操作简便、成本相对较低,适合科研、教学和小规模生产等多种场合。
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