真空腔室L400×W440×H450mm，采用SUS304优质不锈钢
观察窗Φ100mm，含磁力挡板
屏蔽板不锈钢，便于拆卸清洁、更换
水冷蒸发电极8根组成4组
金属蒸发电源功率3kW
复合分子泵JTFB-650Z脂润滑分子泵，抽速650L/s
直联高速旋片式真空泵TRP-36，抽速9L/s
气动高真空插板阀DN150
前级阀/旁路阀DN40
放气阀φ10 电磁充气阀
数显复合真空计两低一高，含规管
波纹管、真空管道材质SUS304不锈钢
束源炉（也称为束流源、束流炉）是一种用于核反应的设备，通常用于研究或工业应用中，特别是在粒子加速器和核聚变研究中。这种设备利用高能粒子束（如电子、质子或离子）来激发核反应或产生核。
束源炉的主要功能包括：
1. **核反应研究**：通过产生高能粒子束，研究人员可以探测和分析核反应的性质。
2. **材料辐照**：束源炉可以用于材料科学研究，通过辐照材料以研究其性质变化。
3. **医学应用**：在放射中，束源炉也可以用于生成特定的放射性同位素，用于等。
整体来看，束源炉是现代核技术和粒子物理研究中一个重要的组成部分。
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备，广泛应用于电子、光电、材料科学等领域。它的主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：通过电阻加热将材料蒸发，然后在基材上形成薄膜。
2. **高精度控制**：可以控制沉积速率和膜厚，使其适应不同需求的薄膜特性。
3. **气氛控制**：在真空或特定气氛下进行蒸镀，以提高薄膜的质量和性能。
4. **多材料蒸镀**：可同时或不同时间段内蒸发多种材料，以实现多层薄膜的沉积。
5. **适用于多种材料**：能够处理多种金属、合金及一些陶瓷材料。
6. **高均匀性**：通过优化设备设计，沉积的薄膜一般具有较高的均匀性和一致性。
7. **温度监控**：设备通常配备温度监控系统，以确保基材和蒸发材料的温度适宜。
电阻蒸镀机因其、以及能够制作量薄膜的优点，成为研究和工业应用中的重要工具。
有机蒸发镀膜机是一种用于将有机材料（如有机半导体、发光材料等）蒸发并沉积到基材上的设备。其主要功能包括：
1. **薄膜沉积**: 可以在基材表面均匀沉积有机薄膜，常用于有机电子设备如OLED显示器、太阳能电池等的制作。
2. **真空蒸发**: 在高真空环境下进行蒸发，避免了材料的氧化和污染，从而提高薄膜的质量。
3. **可控性**: 通过调整蒸发速率、温度和沉积时间，可以控制薄膜的厚度和均匀性。
4. **材料兼容性**: 能够处理多种有机材料，包括聚合物、有机小分子等，适用范围广泛。
5. **多层结构**: 可以实现多层镀膜，从而构建复杂的光电结构，满足不同器件的需求。
6. **批量生产能力**: 适合大规模生产，具备的生产能力。
7. **自动化控制**: 一些设备配备自动化系统，可以实现自动加载、监测和控制，提高生产效率和稳定性。
总的来说，有机蒸发镀膜机在有机光电器件的制造中发挥着至关重要的作用。
热蒸镀是一种用于表面处理的技术，主要用于金属表面的镀层工艺，其功能和应用包括：
1. **防腐蚀**：热蒸镀能在金属表面形成一层致密的保护膜，从而提高金属的耐腐蚀性能，延长使用寿命。
2. **改善表面性能**：通过热蒸镀，可以改善金属表面的硬度、耐磨性、光滑度等性能。
3. **提升美观**：热蒸镀可以使产品表面光亮美观，提高产品的外观质量，增强市场竞争力。
4. **电导性能**：在一些电子设备中，热蒸镀可以增强金属的导电性能，改善电气连接。
5. **降低摩擦**：镀层能减少部件之间的摩擦，降低机械磨损，提升设备的效率和使用寿命。
6. **隔热与绝缘**：某些热蒸镀膜具有良好的隔热或电绝缘性能，可以应用于高温或高压环境中。
7. **热交换性能**：在热交换器等领域，热蒸镀可以提高热传导效率。
综上所述，热蒸镀是一种重要的表面处理技术，在工业和日常生活中有着广泛的应用。
热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备，广泛应用于材料科学、光电器件制造、表面改性等领域。其主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：通过热蒸发过程将材料（如金属、半导体或绝缘体）加热温，使其蒸发并在基材表面沉积形成薄膜。
2. **膜层控制**：可控制沉积速率和膜层厚度，以满足不同应用的要求。
3. **真空环境**：在高真空条件下操作，减少气体分子对蒸发材料的干扰，从而提高膜层质量。
4. **材料多样性**：能够使用多种不同的蒸发材料，满足不同材料系统的需求。
5. **均匀性**：能够实现均匀的膜层沉积，适用于大面积基材的镀膜。
6. **兼容性**：可以与其他镀膜技术（如溅射、化学气相沉积等）结合使用，以实现更复杂的薄膜结构。
7. **自动化与监控**：许多现代热蒸发镀膜机配备了自动化控制系统和监测仪器，方便实时监控沉积过程。
通过这些功能，热蒸发镀膜机在电子器件、光学元件、传感器等领域中扮演着重要角色。
束源炉（也称为束流炉或电子束炉）是利用高能电子束在真空环境中进行加热和熔化材料的设备。其适用范围广泛，主要包括以下几个方面：
1. **金属冶炼与铸造**：束源炉可以用于高熔属的熔化，如钨、铼等稀有金属。此外，它也适用于铸造合金，特别是在需要控制合金成分时。
2. **材料加工**：束源炉常用于金属的热处理、表面处理和焊接等工艺。由于电子束的能量集中，可以实现高温熔化和快速冷却，提高材料的力学性能。
3. **电子元件制造**：在某些电子器件的制造过程中，束源炉可以用来处理半导体材料，以提高其性能和可靠性。
4. **真空镀膜**：束源炉可以用来蒸发和沉积薄膜材料，广泛应用于光学涂层、电子器件及功能性薄膜的制备。
5. **核能和领域**：束源炉在核材料的处理和器材料的加工中也发挥着重要作用，特别是在需要特殊材料或高温条件下的应用。
总的来说，束源炉因其、高温、的特点，在多个制造领域都得到了广泛应用。
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