真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与有机蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
手套箱一体机是一种用于科学实验和工业应用的设备,主要用于在严格的气氛下进行操作。手套箱提供了一个封闭的工作空间,内部可以控制气体成分(如氮气、氩气或真空环境),以防止空气中的水分和氧气对敏感材料或化学反应的影响。
手套箱一体机通常集成了多个功能性模块,如:
1. **气体净化系统**:使用干燥剂和过滤系统来去除空气中的水分和杂质。
2. **温控系统**:维持箱内温度,以满足特定实验的需求。
3. **真空泵**:用于抽取箱内空气,创建真空环境。
4. **气体注入系统**:可以在箱内补充惰性气体,确保气氛的稳定。
5. **操作手套**:提供安全的操作空间,使用户可以在箱内进行实验。
手套箱一体机广泛应用于材料科学、化学合成、电子制造、制药等领域,尤其是在处理易氧化或潮湿敏感材料时,能够提供必要的保护和控制环境。
蒸发舟是一种常用于材料科学和薄膜制备的设备,特别是在物相沉积(PVD)技术中。蒸发舟的主要作用是通过加热将固态材料转化为气态,以实现薄膜的沉积。蒸发舟蒸发颗粒的特点主要包括以下几个方面:
1. **均匀性**:蒸发过程中,颗粒的蒸发速率较为均匀,能够在基底上形成均匀的薄膜。
2. **可控性**:通过调节加热温度和加热时间,可以控制蒸发速率,从而调节薄膜的厚度和组成。
3. **材料兼容性**:蒸发舟可以用于多种不同材料的蒸发,如金属、氧化物和高分子材料等,适应性较强。
4. **颗粒尺寸**:蒸发颗粒的尺寸通常较小,有助于加快蒸发速度,提升薄膜的沉积效率。
5. **高纯度**:蒸发舟中使用的材料一般要求高纯度,以确保终薄膜的性能和质量。
6. **热稳定性**:蒸发舟本身需要具备良好的热稳定性,以承受高温而不发生变形或熔化。
7. **气氛控制**:蒸发实验通常在真空或特定气氛中进行,以避免反应杂质的影响,确保颗粒的质量。
这些特点使得蒸发舟在真空蒸发和其他沉积技术中得到了广泛应用。

蒸发舟(或称为蒸发小舟)在化学和材料科学中主要用于薄膜的制备和物质的蒸发沉积。它的基本功能包括:
1. **材料蒸发**:蒸发舟可以将固态材料加热到其蒸发温度,使其转变为气态,通过真空或惰性气体环境将蒸发出的颗粒沉积在基材上。
2. **薄膜沉积**:通过控制蒸发过程可以在基材上形成均匀、薄的薄膜,这对于制作电子器件、光学涂层等重要。
3. **材料选择性**:蒸发舟可以用于多种材料(如金属、氧化物、聚合物等)的蒸发,适应不同的应用需求。
4. **控制**:通过调整加热功率和蒸发时间,可以控制沉积的厚度和质量。
5. **提高纯度**:在真空环境中蒸发,可以减少杂质及氧化反应,得到较高纯度的沉积材料。
6. **应用广泛**:蒸发舟被广泛应用于半导体制造、光学器件、太阳能电池、传感器等领域。
通过这些功能,蒸发舟在材料的制备和研究中起到了关键的作用。

电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学和材料科学等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:电阻蒸镀机能够将材料(如金属、合金、氧化物等)以蒸发形式沉积在基材表面,形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**:设备通常配备的温度控制和蒸发速率监测系统,可以控制薄膜的厚度和均匀性。
3. **多种材料兼容**:电阻蒸镀机可以用于多种类型的材料沉积,包括金属(如铝、金、银)、合金以及一些特定的化合物。
4. **真空环境**:通过在真空环境中进行沉积,可以减少气体分子对薄膜沉积的影响,从而提高薄膜的品质和性能。
5. **可调参数**:用户可以根据实际需求调整沉积温度、速率、时间等参数,以实现不同的应用效果。
6. **应用广泛**:电阻蒸镀机常用于制造光学元件、半导体器件、传感器、太阳能电池等多种产品。
7. **自动化程度高**:现代电阻蒸镀机通常具备计算机控制系统,可以实现自动化操作,提高生产效率。
总之,电阻蒸镀机是一种重要的薄膜制备工具,其优越的性能使其在科学研究和工业生产中都得到了广泛应用。

桌面型热蒸发镀膜仪是一种常用的薄膜沉积设备,具有以下几个显著特点:
1. **紧凑设计**:桌面型热蒸发镀膜仪通常体积较小,适合在实验室或小型生产环境中使用,便于放置和操作。
2. **蒸发**:利用热源加热蒸发材料,使其蒸发并沉积在基底上,能够实现的薄膜沉积。
3. **材料多样性**:可以使用多种类型的蒸发材料,如金属、氧化物等,适应不同的应用需求。
4. **真空系统**:一般配备有真空泵,能够在相对较低的压力下工作,提高膜层的纯度和均匀性。
5. **易于控制**:搭载有控制系统,能调节蒸发速率和沉积厚度,方便用户根据实验要求进行参数设置。
6. **适应性强**:可用于不同尺寸和形状的基底,如平片、胶卷等,满足不同实验或生产需求。
7. **品质监测**:一些型号可能配备有膜厚监测系统,实时监控沉积过程,确保膜厚的一致性。
8. **维护简单**:相对而言,桌面型热蒸发镀膜仪的维护和操作相对简单,适合研究人员和技术人员使用。
总之,桌面型热蒸发镀膜仪以其灵活性、便捷性和性,在材料科学、光电器件制造及其他相关领域得到了广泛应用。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种广泛应用于材料科学、电子、光电和薄膜技术等领域的设备。其主要适用范围包括:
1. **光学镀膜**:用于制作抗反射涂层、增透膜、反射镜等光学元件。
2. **电子器件**:可用于制备半导体器件中的金属层、绝缘层和其他功能膜,比如太阳能电池、发光二极管(LED)等。
3. **硬涂层**:在工具、模具等表面镀膜,以提高其耐磨性、抗腐蚀性和整体性能。
4. **传感器**:在气体传感器、湿度传感器等的开发中,利用镀膜技术提高传感器的灵敏度和选择性。
5. **薄膜材料研究**:用于基础研究,探索材料的薄膜生长行为及其物理性质。
6. **实验室应用**:适合小批量生产和实验室研究,可以在实验室环境中进行多种不同材料的蒸发镀膜。
7. **装饰镀膜**:用于生产装饰性薄膜,如金属光泽涂层等。
桌面型热蒸发镀膜仪以其操作简便、成本相对较低,适合科研、教学和小规模生产等多种场合。
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