真空腔室Ф246×260mm，304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源（兼容金属与有机蒸发）3组，可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台，供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm，具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
有机蒸发镀膜机是一种用于在基材上沉积有机薄膜材料的设备。这种设备广泛应用于电子、光电、光学、柔性显示器等领域。其工作原理通常包括以下几个步骤：
1. **材料蒸发**：将有机材料加热至其蒸发温度，使其从固态或液态转变为气态。
2. **气体扩散**：蒸发产生的有机蒸气通过真空腔扩散到基材表面。
3. **薄膜沉积**：有机蒸气在基材表面冷凝并沉积形成薄膜。该过程中的温度、压力、基材的运动等都会影响沉积的薄膜质量和厚度。
4. **控制系统**：现代有机蒸发镀膜机通常配备的控制系统，可以控制温度、真空度、沉积速率等参数，以确保薄膜的均匀性和一致性。
有机蒸发镀膜的优势包括能够制备的有机薄膜，适用于形状和材质的基材，同时也适合于大面积涂覆。但是，由于有机材料的特点，其在处理和存储方面需要特别注意，以防止氧化和降解。
钙钛矿镀膜机是一种专门用于制造钙钛矿材料的设备，通常涉及薄膜沉积技术。这种机器的主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：通过化学气相沉积（CVD）、物相沉积（PVD）或溶胶-凝胶法等技术，将钙钛矿材料沉积在基材上，形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**：能够控制沉积过程中的温度、压力和气体流量，以确保薄膜的厚度和均匀性符合要求。
3. **材料多样性**：支持多种钙钛矿材料的沉积，包括不同的组成和结构，以适应不同应用需求。
4. **表面处理**：可以对镀膜后处理表面进行刻蚀或清洗，以改善薄膜的性能和附着力。
5. **实时监测**：配备传感器和监测系统，可以实时监测沉积状态和薄膜质量，确保生产过程的稳定性和可重复性。
6. **自动化操作**：许多钙钛矿镀膜机具有自动化功能，能够减少人工干预，提高生产效率和减少人为错误。
钙钛矿材料被广泛应用于太阳能电池、光电器件、催化剂等领域，因此，钙钛矿镀膜机在新材料研发和产业化方面具有重要意义。
束源炉是一种特殊类型的核反应堆，主要用于研究和医学应用。它的特点包括：
1. **中子源**：束源炉能够产生大量的中子，这些中子可用于材料研究、核检测、医学成像及等领域。
2. **小型化**：与传统的核反应堆相比，束源炉通常较小，设计上更为紧凑，适合于实验室或等场所。
3. **低功率运行**：束源炉的运行功率相对较低，一般在几千瓦到几兆瓦之间，适合用于中子辐照实验。
4. **安全性**：由于功率较低，束源炉的设计通常具有更高的安全性，反应堆的重要系统和结构更易于控制。
5. **多用途**：除了用于基础科学研究外，束源炉还可用于材料分析、核医学以及教育等多个领域，显示出其多功能性。
6. **易于安装与维护**：束源炉一般设计得更加便捷，方便安装和日常维护。
7. **放射性废物处理**：由于其低功率的特性，所产生的放射性废物相对较少，处理相对简单。
这些特点使得束源炉在研究和应用中发挥了重要的作用。
热蒸发镀膜机是一种用于物相沉积（PVD）技术的设备，主要功能包括：
1. **膜层制备**：通过加热蒸发材料，使其转变为气态，并在基材表面沉积形成薄膜。可以用于制备金属、绝缘材料或半导体薄膜。
2. **膜层厚度控制**：通过控制蒸发率和沉积时间，可以调节膜层的厚度。
3. **材料种类选择**：可以使用多种材料进行蒸发，如金、银、铝、氧化物等，以实现不同的光学或电气性能。
4. **真空环境控制**：在真空环境中进行镀膜，降低空气中的杂质对膜层质量的影响，提高膜层的致密性和均匀性。
5. **基材适应性**：可用于多种基材的镀膜，包括玻璃、塑料、金属等。
6. **功能性薄膜的制备**：可以制备不同功能的薄膜，如反射膜、抗反射膜、导电膜、光电膜等，广泛应用于光电子器件、显示器、传感器等领域。
7. **多层膜制备**：可实现多层膜的叠加，制造复杂结构以满足特定的光学或电气特性。
这些功能使得热蒸发镀膜机在材料科学、电子、光学等领域有着广泛的应用。
小型热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备，广泛应用于光学、电子、材料科学等领域。其主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：能够在基材表面沉积金属、氧化物、氮化物等材料，以形成薄膜。
2. **控制膜厚**：通过调节蒸发时间和速率，可以控制薄膜的厚度，满足不同应用的需要。
3. **高真空环境**：通常配备真空系统，能够在高真空条件下进行蒸发，有效减少气体分子对薄膜的影响，提高膜层质量。
4. **多种材料兼容**：支持多种蒸发材料的使用，包括铝、银、金、硅等，适应不同的应用需求。
5. **均匀沉积**：通过合理设计蒸发源的布局，实现薄膜在基材上的均匀沉积。
6. **小型化设计**：体积小、重量轻，适合实验室、小规模生产等场合，便于搬运和操作。
7. **自动化控制**：一些设备配备了计算机控制系统，可以实现自动化操作，提率和重复性。
8. **多种基材兼容**：能够处理不同材料和形状的基材，如玻璃、塑料、陶瓷等。
总之，小型热蒸发镀膜机是一种 versatile 的设备，适用于科学研究和工业应用中的薄膜制备。
蒸发舟（或称蒸发皿）是一种用于化学实验和工业生产中的器具，主要用于蒸发溶剂和浓缩溶液。蒸发舟蒸发颗粒适用范围一般包括：
1. **化学实验**：用于蒸发液体，浓缩溶液，分离化学物质。
2. **生物实验**：在生物样品处理中，常用于蒸发或浓缩生物样品中的溶剂。
3. **制药工业**：用于制备药物浓缩液，去除溶剂，生产药品原料。
4. **食品工业**：在浓缩果汁、调味品等生产中使用。
5. **材料科学**：用于涂层材料的制备，以及材料的合成过程。
6. **环境监测**：在水质分析中，用于浓缩水样中的污染物。
7. **纳米材料制备**：在纳米颗粒的制备过程中，常用于蒸发溶液形成固态颗粒。
在不同的应用中，根据具体需要选用合适材质和规格的蒸发舟，以确保实验的准确性和安全性。
http://www.lightbule-nano.com
