仙桃靶材厂
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产品描述

真空腔室Ф246×228mm,304优质不锈钢 分子泵进口Pfeiffer分子泵 前级泵机械泵,北仪优成 真空规全量程真空规,上海玉川 溅射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶挡板) 溅射电源500W直流电源1台,300W射频电源1台 流量计20sccm/50sccm进口WARWICK 控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套 冷水机LX-300 前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套 旁路阀GDC-25b电磁挡板阀1套 限流阀DN63mm一套 充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套 放气阀Φ6mm,电磁截止阀1套 基片台Ф100mm,高度:60~120mm可调,旋转:0-20r/min可调,可加热至300℃ 膜厚监控仪进口Inficon SQM-160单水冷探头,精度0.1Å(选配) 真空管路波纹管、真空管道等1套 设备机架机电一体化 预留接口CF35法兰一个 备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
样品台通常指的是用于展示或测试物品的台面,广泛应用于实验室、展览、商店等场所。在实验室中,样品台可以用来放置化学试剂或生物样本,以便进行观察和实验。在展览中,样品台用于展示产品,以吸引观众的注意。商店中的样品台则用于展示商品,方便顾客查看和选择。
如果你有更具体的问题或者需要了解样品台的某个方面,请告诉我!
磁控溅射镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学、太阳能、LED等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过溅射技术,将靶材表面的原子或分子激发并沉积在基材表面,从而形成薄膜。可以沉积金属、绝缘体和半导体等多种材料。
2. **膜层均匀性调控**:通过调整溅射参数(如气体流量、功率、沉积时间等),可以控制薄膜的厚度和均匀性,满足不同应用的要求。
3. **材料性质优化**:可以通过改变靶材的种类、沉积环境等方式,调节薄膜的物理和化学性质,如电导率、光学透过率等。
4. **多层膜沉积**:可以实现多层膜的交替沉积,满足复杂器件的需求,比如光学滤光片、传感器等。
5. **真空环境**:在真空条件下进行沉积,可以减少膜层缺陷,提高膜层的质量及其性能。
6. **可控厚度及成分**:通过控制溅射时间和功率,可以实现对膜层厚度及化学成分的准确调控,适用于应用需求。
7. **适应性强**:可以使用多种靶材和基材,广泛应用于不同领域,包括电子器件、光电材料、装饰性涂层等。
磁控溅射镀膜机因其优越的沉积过程和膜层质量,在现代材料科学和工程中占有重要地位。
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样品台通常用于科学实验、显微镜观察及工业测试等领域,其主要功能包括:
1. **支撑样品**:样品台提供一个稳定的表面,用于放置和支撑待观察或测试的样品。
2. **调整位置**:许多样品台具有可调节的机制,允许用户定位样品,以便于观察和分析。
3. **光学观察**:在显微镜等光学设备中,样品台能够在光束的照射下,让研究人员清晰观察样品的细节。
4. **温度控制**:一些样品台具有温控功能,可以在特定的温度条件下实验,适用于生物样品的观测。
5. **样品固定**:样品台上通常会配备夹具或黏合剂,以确保样品在观察或测试过程中移动。
6. **兼容性**:许多样品台设计为能够与不同类型的设备(如显微镜、光谱仪等)兼容,便于科学研究。
7. **数据记录**:某些样品台配备传感器,可以实时记录样品的变化,便于后续分析。
以上是样品台的一些主要功能,具体功能可能根据不同的应用领域和设备类型而有所不同。
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样品台,通常用于实验室、工业生产和研究等领域,具有以下几个特点:
1. **稳定性**:样品台通常设计得稳定,以确保在进行实验或观察时,样品受到外部震动或干扰的影响。
2. **调整功能**:许多样品台具有高度可调节性,允许用户根据需要调整样品的位置和角度,以便于观察和测量。
3. **易清洁性**:样品台通常采用易于清洗的材料,能够防止样品的污染,同时在使用过程中保持卫生。
4. **多功能性**:某些样品台配备了不同的附件和配件,支持实验需求,例如光学显微镜、测量仪器等。
5. **适应性强**:样品台的设计往往可以根据不同类型的样品(如液体、固体、粉末等)进行调整,以适应不同的实验需求。
6. **材料选用**:样品台通常采用耐腐蚀、耐高温或其他特殊材料,以适应不同实验环境。
7. **标记系统**:许多样品台上会有标记或者刻度,使用户能够定位样品位置。
8. **光学性能**:在光学实验中,样品台可能会考虑透光性和反射性,以确保观测效果的清晰度。
这些特点使得样品台在不同领域的应用中显得尤为重要,能够提高实验的性和效率。
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磁控溅射镀膜机是一种常用的薄膜制备设备,广泛应用于半导体、光电器件、光学涂层等领域。其主要特点包括:
1. **高沉积速率**:磁控溅射技术能够在较短时间内实现较高的薄膜沉积速率,适用于大规模生产。
2. **优良的膜层均匀性**:由于采用磁场增强了离子的密度,膜层的厚度均匀性和思想性得到了显著提升。
3. **良好的膜质**:磁控溅射沉积的膜层通常具有较高的致密性和优良的物理性质,如低内应力和高附着力。
4. **适用性广**:可以对多种材料进行沉积,包括金属、绝缘体和半导体等,适用范围广泛。
5. **可控性强**:通过调节气体压力、功率、目标材料和沉积时间等参数,可以控制膜层的厚度和组成。
6. **环境友好**:相比于其他镀膜技术,磁控溅射常用的气体(如氩气)对环境危害较小,过程相对环保。
7. **良好的应变控制**:磁控溅射可以在较低的温度下进行,这对于热敏感材料尤为重要,可以有效控制膜层的应变和缺陷。
8. **多功能性**:可通过不同的配置实现多种功能,如多层膜的沉积或不同材料的复合沉积。
这些特点使得磁控溅射镀膜机成为现代薄膜技术中重要的工具。
小型磁控溅射镀膜机是一种常见的薄膜沉积设备,广泛应用于多个领域。其适用范围主要包括:
1. **材料科学**:用于研究新材料的特性和薄膜的性能,可以制备金属、合金和合成材料的薄膜。
2. **电子器件**:在半导体、光电器件等领域,常用于制造电极、保护膜和介电层等。
3. **光学 coating**:用于光学元件的镀膜,如镜头、光学滤光片、防反射涂层等。
4. **太阳能电池**:用于镀膜太阳能电池的材料,提升其光电转换效率。
5. **传感器**:在传感器的制造中用于沉积感应膜,提升其性能和稳定性。
6. **饰品与装饰品**:用于金属表面的装饰性镀膜,提高美观及防腐蚀性能。
7. **生物医学**:在生物材料和器械的表面改性中,改善表面特性,促进生物相容性。
8. **实验室研究**:小型设备适合于科研实验室进行材料合成与性质测试。
小型磁控溅射镀膜机因其操作灵活、适用性广泛,受到许多行业和科研机构的欢迎。
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